| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| ·ZnO 的基本特性 | 第9页 |
| ·ZAO 薄膜的制备方法及应用 | 第9-14页 |
| ·ZAO 薄膜的制备方法 | 第10-13页 |
| ·ZAO 薄膜的应用 | 第13-14页 |
| ·ZnO 气敏传感器 | 第14-18页 |
| ·纳米材料的特性 | 第15页 |
| ·气敏传感器的分类 | 第15-16页 |
| ·ZnO 气敏传感器及其气敏机理 | 第16-18页 |
| ·掺杂ZnO 气敏薄膜的研究现状及存在的问题 | 第18-20页 |
| ·掺杂ZnO 气敏薄膜的研究现状 | 第18-19页 |
| ·Al掺杂ZnO气敏薄膜目前存在的问题及发展趋势 | 第19-20页 |
| ·本课题的研究内容和目的 | 第20-21页 |
| 2 Al Z、n 双靶反应磁控共溅射ZAO 薄膜设备及实验设计 | 第21-34页 |
| ·JGP450多功能磁控溅射镀膜设备 | 第21-22页 |
| ·磁控溅射镀膜设备工作原理 | 第22-23页 |
| ·溅射技术简介 | 第22页 |
| ·磁控溅射原理 | 第22-23页 |
| ·磁控溅射镀膜设备操作程序 | 第23-25页 |
| ·实验设计及制备条件 | 第25-32页 |
| ·实验设计 | 第25-27页 |
| ·双靶共溅制备条件的摸索 | 第27-32页 |
| ·本章小节 | 第32-34页 |
| 3 ZAO 薄膜的生长特性及其结构性能分析 | 第34-46页 |
| ·ZAO 薄膜的生长理论 | 第34页 |
| ·ZAO 薄膜的结构性能分析 | 第34-45页 |
| ·X 射线衍射(XRD)的分析 | 第34-38页 |
| ·不同溅射压强下制备的ZnO:Al薄膜的X射线衍射谱 | 第36-37页 |
| ·不同的Al的溅射功率下制备的ZnO:Al薄膜的X射线衍射谱 | 第37-38页 |
| ·ZAO 薄膜的电学性能分析 | 第38-42页 |
| ·不同的Al的溅射功率对薄膜电阻的影响 | 第39-41页 |
| ·不同溅射总压强对薄膜的电阻的影响 | 第41-42页 |
| ·ZAO 薄膜的光学性能分析 | 第42-44页 |
| ·不同的Al的溅射功率对薄膜透射率的影响 | 第43-44页 |
| ·ZAO 薄膜的SEM 分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 4 Al、Zn 双靶共溅射ZAO 薄膜气敏性能检测 | 第46-57页 |
| ·Al、Zn 双靶共溅射ZAO 气敏薄膜的制作 | 第46页 |
| ·气敏元件的制作 | 第46-48页 |
| ·ZAO 薄膜气敏性能的研究 | 第48-54页 |
| ·ZAO 薄膜对酒精气体敏感性能的影响 | 第48-52页 |
| ·Al 的溅射功率对敏感性能的影响 | 第48-51页 |
| ·样品的恢复-响应时间 | 第51-52页 |
| ·LPG 气体浓度对ZAO 薄膜敏感性能的影响 | 第52-53页 |
| ·ZAO 薄膜对NO_2气体敏感性能的研究 | 第53-54页 |
| ·样品3 对NO_2气体敏感性能 | 第53页 |
| ·元件的响应-恢复时间 | 第53-54页 |
| ·气敏机理 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 5 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附：1.作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录、科研情况 | 第65页 |
