| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-18页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·电磁屏蔽的背景 | 第13-16页 |
| ·课题的来源、项目目的及组成 | 第16页 |
| ·课题来源 | 第16页 |
| ·项目目的及组成 | 第16页 |
| ·论文各章主要内容 | 第16-18页 |
| 第二章 电子仪器箱体的发展现状及屏蔽要求 | 第18-25页 |
| ·电子仪器箱体的发展现状 | 第18页 |
| ·箱体屏蔽的技术要求 | 第18-23页 |
| ·箱体屏蔽效能要求 | 第18-19页 |
| ·屏蔽结构设计的一般原则 | 第19-21页 |
| ·屏蔽材料选用的一般原则 | 第21-23页 |
| ·本章小结 | 第23-25页 |
| 第三章 电磁场及有限元基本理论 | 第25-35页 |
| ·电磁场的基本理论 | 第25-26页 |
| ·麦克斯韦(Maxwell)方程组 | 第25-26页 |
| ·电磁场求解的边界条件 | 第26页 |
| ·波导谐振腔的基本理论 | 第26-28页 |
| ·矩形波导结构 | 第27-28页 |
| ·谐振腔结构 | 第28页 |
| ·ANSYS/EMAG 3D的应用 | 第28-34页 |
| ·有限元技术 | 第28-29页 |
| ·ANSYS电磁仿真技术简介 | 第29-30页 |
| ·ANSYS的分析过程 | 第30页 |
| ·电磁仿真的单元类型 | 第30-33页 |
| ·ANSYS电磁仿真的边界条件类型 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 电磁屏蔽的结构设计 | 第35-50页 |
| ·电磁屏蔽的原理 | 第35-37页 |
| ·电磁屏蔽的物理过程 | 第35-36页 |
| ·电磁屏蔽效能的计算 | 第36-37页 |
| ·电磁屏蔽的结构类型 | 第37-48页 |
| ·双层屏蔽结构设计 | 第37-41页 |
| ·缝隙的屏蔽结构设计 | 第41-44页 |
| ·通风孔洞的屏蔽 | 第44-48页 |
| ·电缆和连接器的屏蔽 | 第48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第五章 电磁屏蔽的新型材料Ni-Fe-B合金镀层的研究 | 第50-69页 |
| ·常见屏蔽材料及化学镀技术 | 第50-51页 |
| ·Ni-Fe-B合金镀层耐腐蚀性能的研究 | 第51-57页 |
| ·盐雾对合金镀层影响的试验结果 | 第51-52页 |
| ·氯化钠对合金镀层的影响 | 第52-55页 |
| ·稀土Ce和La对Ni-Fe-B合金镀层微观形貌的影响 | 第55-56页 |
| ·铜箔在NaCl溶液和NaOH溶液中的耐腐蚀性能研究 | 第56-57页 |
| ·耐腐蚀性分析及结论 | 第57页 |
| ·Ni-Fe-B合金材料屏蔽效能研究及仿真分析 | 第57-68页 |
| ·Ni-Fe-B合金制备的实验条件及方法 | 第57-58页 |
| ·屏蔽效能的测试条件及仿真方法 | 第58-60页 |
| ·频率对合金电磁屏蔽效能的影响 | 第60-61页 |
| ·厚度对合金电磁屏蔽效能的影响 | 第61-63页 |
| ·稀土对合金电磁屏蔽效能的影响 | 第63-65页 |
| ·环境对合金电磁屏蔽效能的影响 | 第65-68页 |
| ·结论 | 第68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章 总结与展望 | 第69-71页 |
| ·论文总结 | 第69-70页 |
| ·对本课题工作的展望 | 第70-71页 |
| 附录 | 第71-75页 |
| 1 双层实体屏蔽效能ANSYS命令流 | 第71页 |
| 2 单层缝隙、通风孔屏蔽效能ANSYS命令流 | 第71-73页 |
| 3 Ni-Fe-B屏蔽效能ANSYS命令流 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 撰写及发表论文情况 | 第79页 |
