| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 引言 | 第10-15页 |
| 参考文献 | 第13-15页 |
| 第一章 综述 | 第15-27页 |
| ·SmCo基本性质 | 第15-19页 |
| ·SmCo的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·SmCo的性能 | 第16-17页 |
| ·不同底层的SmCo薄膜 | 第17-19页 |
| ·SmCo薄膜的研究现状 | 第19-22页 |
| ·SmCo薄膜制备过程中的关键因素 | 第19-20页 |
| ·SmCo薄膜研究 | 第20-22页 |
| ·本论文的主要内容 | 第22-24页 |
| 本章参考文献 | 第24-27页 |
| 第二章 薄膜的制备及表征方法 | 第27-38页 |
| ·SmCo薄膜制备方法 | 第27-29页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第27-28页 |
| ·磁控溅射法 | 第28-29页 |
| ·分子束外延(MBE)法 | 第29页 |
| ·样品的分析与表征手段 | 第29-36页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第29-31页 |
| ·原子力显微镜(AFM)分析 | 第31-32页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第32-33页 |
| ·振动样品磁强计(VSM)分析 | 第33-34页 |
| ·磁光克尔效应(MOKE)分析 | 第34-36页 |
| 本章参考文献 | 第36-38页 |
| 第三章 薄膜制备和实验过程 | 第38-42页 |
| ·PLD-450系统简介 | 第38-39页 |
| ·实验方法 | 第39-40页 |
| ·基片的清洗 | 第39页 |
| ·PLD制备SmCo薄膜 | 第39-40页 |
| ·样品的表征 | 第40-42页 |
| 第四章 制备工艺对SmCo/Cu薄膜结构和性能的影响 | 第42-53页 |
| ·退火对Cu底层结构的影响 | 第43-44页 |
| ·不同成分的SmCo薄膜的结构与磁性能 | 第44-48页 |
| ·Cu层厚度与退火时间对SmCo/Cu薄膜结构与性能的影响 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 本章参考文献 | 第51-53页 |
| 第五章 SmCo/Cu/Cr薄膜特性研究 | 第53-62页 |
| ·Cr缓冲层对SmCo/Cu薄膜结构的影响 | 第53-54页 |
| ·不同厚度磁性层的SmCo/Cu/Cr薄膜的形貌与结构 | 第54-57页 |
| ·Cr缓冲层对SmCo/Cu薄膜磁性能的影响 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 本章参考文献 | 第60-62页 |
| 第六章 Fe/SmCo/Cu薄膜特性研究 | 第62-73页 |
| ·Fe层厚度对薄膜结构的影响 | 第63-64页 |
| ·衬底对薄膜磁性能的影响 | 第64-66页 |
| ·退火对样品的结构与磁学性能影响 | 第66-69页 |
| ·样品性能的时效性分析 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 本章参考文献 | 第71-73页 |
| 第七章 结论 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 攻读硕士期间科研成果 | 第76页 |
