| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-29页 |
| ·合金电沉积 | 第12-22页 |
| ·合金共沉积的基本条件 | 第13页 |
| ·合金共沉积的类型 | 第13-14页 |
| ·非晶态合金的电沉积 | 第14-18页 |
| ·纳米晶态合金的电沉积 | 第18-22页 |
| ·钨合金电沉积的研究现状 | 第22-26页 |
| ·钨合金电沉积的机理概述 | 第22-23页 |
| ·钨合金电沉积工艺的研究现状 | 第23-26页 |
| ·钨合金镀层的性能 | 第26-28页 |
| ·硬度 | 第26-27页 |
| ·耐蚀性 | 第27页 |
| ·耐磨性 | 第27-28页 |
| ·热稳定性 | 第28页 |
| ·其他 | 第28页 |
| ·论文构思 | 第28-29页 |
| 第2章 高钨含量（W%≥53wt%）Fe-Ni-W 合金的电沉积工艺及镀层性能的研究 | 第29-40页 |
| ·实验部分 | 第29-31页 |
| ·仪器与试剂 | 第29页 |
| ·实验方法 | 第29-31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-38页 |
| ·工艺条件对高钨含量（W%≥53wt%）Fe-Ni-W 合金镀层组成的影响 | 第31-32页 |
| ·电沉积高钨含量（W%≥53wt%）Fe-Ni-W 合金镀层的组成和表观 | 第32-33页 |
| ·电沉积高钨含量（W%≥53wt%）Fe-Ni-W 合金镀层的形貌和结构 | 第33-35页 |
| ·电沉积高钨含量（W%≥53wt%）Fe-Ni-W 合金镀态镀层的热稳定性 | 第35-36页 |
| ·电沉积高钨含量（W%≥53wt%）Fe-Ni-W 合金镀层的性能 | 第36-38页 |
| ·小结 | 第38-40页 |
| 第3章 工艺条件及柠檬酸根对电沉积中钨含量（34%≤Wwt%≤39%)Fe-Ni-W 合金的影响 | 第40-51页 |
| ·实验部分 | 第40-42页 |
| ·仪器与试剂 | 第40页 |
| ·实验方法 | 第40-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-51页 |
| ·工艺条件对中钨含量（34%≤Wwt%≤39%）Fe-Ni-W 合金层组成的影响 | 第42-44页 |
| ·柠檬酸根浓度对镀层表观的影响 | 第44页 |
| ·柠檬酸根浓度对沉积速度的影响 | 第44-45页 |
| ·柠檬酸根浓度对镀液缓冲能力的影响 | 第45页 |
| ·柠檬酸根浓度对镀层组分的影响 | 第45-47页 |
| ·柠檬酸根浓度对镀层硬度的影响 | 第47页 |
| ·柠檬酸根浓度对镀层结构的影响 | 第47-49页 |
| ·柠檬酸根浓度对镀层耐腐蚀性能的影响 | 第49-51页 |
| 第4章 低钨含量（W%≤20wt%）Fe-Ni-W 合金的电沉积工艺及镀层性能研究 | 第51-60页 |
| ·实验部分 | 第51-53页 |
| ·仪器与试剂 | 第51页 |
| ·实验方法 | 第51-53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-59页 |
| ·工艺条件对低钨含量（W%≤20wt%）Fe-Ni-W 合金镀层组成的影响 | 第53-55页 |
| ·电沉积低钨含量（W%≤20wt%）Fe-Ni-W 合金镀层的组成和表观 | 第55页 |
| ·电沉积低钨含量（W%≤20wt%）Fe-Ni-W 合金镀层的形貌和结构 | 第55-56页 |
| ·电沉积低钨含量（W%≤20wt%）Fe-Ni-W 合金镀层的性能 | 第56-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 附录 本文作者相关论文题录 | 第77页 |
