| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-16页 |
| 第1章 绪论 | 第16-28页 |
| ·二氧化钛功能薄膜研究进展 | 第16-21页 |
| ·前言 | 第16页 |
| ·二氧化钛薄膜的基本结构 | 第16-17页 |
| ·光催化特性 | 第17-18页 |
| ·亲水性特性 | 第18-20页 |
| ·二氧化钛的气敏和湿敏特性的应用 | 第20-21页 |
| ·二氧化钛超亲水性国内外研究概况 | 第21-23页 |
| ·国内外研究概况 | 第21页 |
| ·二氧化钛薄膜亲水性存在的问题 | 第21-22页 |
| ·提高亲水能力的研究 | 第22-23页 |
| ·亲水防雾薄膜的应用 | 第23-24页 |
| ·易清洁薄膜 | 第23页 |
| ·亲水防雾涂层 | 第23-24页 |
| ·医疗卫生 | 第24页 |
| ·污水处理 | 第24页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第24-26页 |
| ·溶胶凝胶法 | 第24-25页 |
| ·化学气相沉积(CVD)法 | 第25页 |
| ·液相沉积法 | 第25页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法 | 第25页 |
| ·溅射法 | 第25-26页 |
| ·本文研究的意义目的及内容 | 第26-28页 |
| 第2章 TiO_2薄膜表面的亲水性和表面能 | 第28-40页 |
| ·材料表面的浸润 | 第28-32页 |
| ·浸润的定义 | 第28-29页 |
| ·浸润和不浸润现象的微观解释 | 第29页 |
| ·接触角(浸润角)的定义 | 第29-31页 |
| ·接触角θ的测定 | 第31页 |
| ·实际表面上接触角测量注意的问题 | 第31-32页 |
| ·固体表面的表面能 | 第32-34页 |
| ·固体表面能的概念 | 第32-33页 |
| ·固体表面接触角与自由能的关系 | 第33-34页 |
| ·沾湿浸润 | 第33页 |
| ·浸没浸润 | 第33页 |
| ·铺展浸润 | 第33页 |
| ·接触角与固体表面能的关系 | 第33-34页 |
| ·TiO_2薄膜的能带 | 第34-35页 |
| ·固体能带理论 | 第34-35页 |
| ·TiO_2半导体薄膜的能带作用特点 | 第35页 |
| ·TiO_2纳米薄膜的亲水特性 | 第35-40页 |
| ·TiO_2纳米薄膜表面亲水特性的可变性 | 第35-36页 |
| ·表面的超亲水性原理 | 第36-38页 |
| ·TiO_2薄膜表面的浸润过程中表面能的变化 | 第38-39页 |
| ·TiO_2表面的亲水性与TiO_2能带结构 | 第39-40页 |
| 第3章 TiO_2纳米薄膜的制备和表征 | 第40-78页 |
| ·TiO_2纳米薄膜制备的设备 | 第40-43页 |
| ·TiO_2纳米薄膜的制备设备的介绍 | 第40页 |
| ·高真空多功能磁控与离子束联合溅射镀膜设备的简介 | 第40-41页 |
| ·中频磁控及多弧镀多功能镀膜机的简介 | 第41-42页 |
| ·溅射原理 | 第42-43页 |
| ·实验设备的性能 | 第43页 |
| ·TiO_2纳米薄膜的制备 | 第43-44页 |
| ·基片的清洗 | 第43-44页 |
| ·TiO_2纳米薄膜的制备的方法 | 第44页 |
| ·总气压对TiO_2薄膜性能的影响 | 第44-56页 |
| ·实验条件 | 第44-45页 |
| ·总气压与TiO_2薄膜厚度检测结果的关系 | 第45-46页 |
| ·总气压与TiO_2薄膜分光计检测结果的关系 | 第46-48页 |
| ·总气压与TiO_2薄膜断面形貌的关系 | 第48-49页 |
| ·总气压与样品接触角测量结果的关系 | 第49-51页 |
| ·总气压与TiO_2薄膜XRD检测结果的关系 | 第51-54页 |
| ·总气压与TiO_2薄膜表面形貌的关系 | 第54-56页 |
| ·氧流量对TiO_2薄膜性能的影响 | 第56-62页 |
| ·实验条件 | 第56-57页 |
| ·氧流量与TiO_2薄膜分光计检测结果的关系 | 第57-58页 |
| ·氧流量与TiO_2薄膜厚度检测结果的关系 | 第58-59页 |
| ·氧流量与TiO_2薄膜XRD测量结果的关系 | 第59-60页 |
| ·氧流量与TiO_2薄膜表面形貌的关系 | 第60-61页 |
| ·氧流量与TiO_2薄膜断面形貌的关系 | 第61页 |
| ·氧流量与TiO_2薄膜接触角测量结果的关系 | 第61-62页 |
| ·温度对TiO_2薄膜性能的影响 | 第62-70页 |
| ·实验条件 | 第62-63页 |
| ·温度与TiO_2薄膜厚度检测结果的关系 | 第63-64页 |
| ·温度与TiO_2薄膜XRD检测结果的关系 | 第64-66页 |
| ·温度与TiO_2薄膜表面形貌的关系 | 第66-67页 |
| ·温度与TiO_2薄膜断面形貌的关系 | 第67-68页 |
| ·温度与TiO_2薄膜接触角测量结果的关系 | 第68-69页 |
| ·温度与TiO_2薄膜分光计检测结果的关系 | 第69-70页 |
| ·厚度对TiO_2薄膜性能的影响 | 第70-76页 |
| ·实验条件 | 第70页 |
| ·薄膜厚度的测定 | 第70-71页 |
| ·厚度与TiO_2薄膜分光计检测结果的关系 | 第71-72页 |
| ·厚度与TiO_2薄膜接触角测量结果的关系 | 第72-74页 |
| ·厚度与TiO_2薄膜XRD检测结果的关系 | 第74-75页 |
| ·厚度与TiO_2薄膜表面形貌的关系 | 第75-76页 |
| ·厚度与TiO_2薄膜断面形貌的关系 | 第76页 |
| ·本章小结 | 第76-78页 |
| 第4章 磁控靶磁场对TiO_2薄膜亲水特性的影响 | 第78-100页 |
| ·磁控靶磁场的模拟仿真 | 第79-86页 |
| ·现有的靶结构及磁场分布仿真计算模型的建立 | 第79-81页 |
| ·仿真模拟的模型网格的划分 | 第81-82页 |
| ·模拟仿真的结果 | 第82-86页 |
| ·实验验证 | 第86-87页 |
| ·由磁控靶特性决定的迟滞回归线 | 第87-91页 |
| ·实验过程 | 第87-88页 |
| ·TiO_2薄膜沉积速率与氧气分压比的关系 | 第88-90页 |
| ·磁控靶对迟滞回线影响的理论分析 | 第90-91页 |
| ·反应溅射TiO_2薄膜成膜过程 | 第91-95页 |
| ·TiO_2薄膜晶核的形成 | 第91-92页 |
| ·TiO_2薄膜的生长方式 | 第92-93页 |
| ·TiO_2薄膜形成的热力学条件 | 第93-95页 |
| ·磁控靶对TiO_2薄膜形成的影响 | 第95-99页 |
| ·不同氧流量下磁控靶磁场参数对成膜过程的影响 | 第96-97页 |
| ·对不同真空度下磁控靶磁场参数对成膜的影响 | 第97-98页 |
| ·不同基片温度下磁控靶磁场参数对成膜的影响 | 第98-99页 |
| ·本章小结 | 第99-100页 |
| 第5章 TiO_2薄膜表面能与亲水性之间的关系 | 第100-122页 |
| ·固体表面能的分析方法 | 第100-106页 |
| ·实验测量方法 | 第100-102页 |
| ·理论估算方法 | 第102-105页 |
| ·准化学方法估算金属的表面能 | 第102页 |
| ·共价晶体 | 第102-103页 |
| ·离子晶体 | 第103页 |
| ·分子晶体 | 第103-104页 |
| ·几何断键模型 | 第104-105页 |
| ·理论计算方法 | 第105-106页 |
| ·固体表面能分析的趋势 | 第106页 |
| ·Young-Good-Girifalco-Fowke方程的理论依据 | 第106-112页 |
| ·粘附功的Lifshitz-范德华作用分量的几何方程理论 | 第107-109页 |
| ·酸碱作用理论及其在表面能测定上的应用 | 第109-112页 |
| ·酸碱作用理论简述 | 第109页 |
| ·酸碱理论中的四参数方程及其在表面能测定上的应用 | 第109-111页 |
| ·理论结论 | 第111-112页 |
| ·TiO_2薄膜的表面能分析 | 第112-121页 |
| ·实验获得的TiO_2薄膜接触角的值及相关参数 | 第112-113页 |
| ·根据Young-Good-Girifalco-Fowke方程计算TiO_2薄膜表面能 | 第113-115页 |
| ·应用分析结果对TiO_2薄膜的实验进行分析讨论 | 第115-121页 |
| ·TiO_2薄膜表面能各分量分析 | 第115-116页 |
| ·能带与TiO_2薄膜表面能的关系 | 第116-118页 |
| ·粗糙度对TiO_2薄膜表面能的影响 | 第118页 |
| ·TiO_2薄膜制备和表征的表面能分析 | 第118-120页 |
| ·表面能理论对TiO_2薄膜亲水研究的意义 | 第120-121页 |
| ·本章小结 | 第121-122页 |
| 第6章 结论 | 第122-124页 |
| 参考文献 | 第124-130页 |
| 致谢 | 第130-131页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第131-132页 |
| 从事科学研究和学习经历的简历 | 第132页 |
