基于集成光学的磁光波导调制器研究及Ce：YIG薄膜制备
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-19页 |
| ·集成光学简介 | 第9-11页 |
| ·光调制器的基本概念 | 第11-13页 |
| ·磁光调制器原理 | 第13-14页 |
| ·磁光调制器的分类及现状 | 第14-16页 |
| ·体型磁光调制器现状 | 第14-15页 |
| ·波导型磁光调制器现状 | 第15-16页 |
| ·调制器的质量指标 | 第16-18页 |
| ·本课题的研究意义及论文结构 | 第18-19页 |
| 第二章 磁致旋光材料介绍 | 第19-30页 |
| ·磁光材料研究现状 | 第19-20页 |
| ·磁光材料的主要应用 | 第20-24页 |
| ·钇铁石榴石的研究 | 第24-27页 |
| ·YIG 的晶体结构 | 第24-26页 |
| ·钇铁石榴石的研究 | 第26-27页 |
| ·掺铈钇铁石榴石的研究 | 第27-30页 |
| ·石榴石结构中的元素替代 | 第27-28页 |
| ·掺铈钇铁石榴石研究 | 第28-30页 |
| 第三章 耦合波方程的 FD_BPM 算法 | 第30-40页 |
| ·BPM算法概况 | 第30-31页 |
| ·耦合波方程推导 | 第31-40页 |
| ·两维含耦合项标量波动方程的差分格式 | 第33-36页 |
| ·追赶法求解方程 | 第36-39页 |
| ·程序验证 | 第39-40页 |
| 第四章 波导磁光调制器的研究 | 第40-60页 |
| ·光波导的简明理论 | 第40-43页 |
| ·导模条件 | 第40-41页 |
| ·平面波导传输模式的电磁场分析 | 第41-43页 |
| ·磁光波导调制器研究 | 第43-60页 |
| ·磁光介质中的介电张量 | 第43-44页 |
| ·磁光调制中的模式耦合 | 第44-46页 |
| ·波导磁光调制器原理 | 第46-47页 |
| ·磁光介质中磁化矢量运动 | 第47-48页 |
| ·磁光层材料、厚度与长度的确定 | 第48-49页 |
| ·单条型微带传输线方案 | 第49-50页 |
| ·保护层厚度设置 | 第50-51页 |
| ·波导偏振器方案确定 | 第51-55页 |
| ·波导偏振器介绍 | 第51-53页 |
| ·金属膜载条偏振器长度设置 | 第53-55页 |
| ·数值结果与讨论 | 第55-60页 |
| 第五章 Ce:YIG 薄膜制备 | 第60-70页 |
| ·石榴石制备方法介绍 | 第60-63页 |
| ·物理方法 | 第60-61页 |
| ·溅射法 Sputter | 第60页 |
| ·PLD 法 | 第60-61页 |
| ·化学方法 | 第61-62页 |
| ·溶胶-凝胶法 SOL-GEL | 第61-62页 |
| ·物理化学方法 | 第62-63页 |
| ·化学气相沉积 CVD | 第62页 |
| ·液相外延 LPE | 第62-63页 |
| ·射频溅射法的基本原理 | 第63-64页 |
| ·溅射陶瓷靶的制作 | 第64页 |
| ·基片选择及清洗 | 第64-65页 |
| ·薄膜制备 | 第65-67页 |
| ·基片温度对薄膜结构的影响 | 第65页 |
| ·溅射功率对薄膜结构的影响 | 第65页 |
| ·溅射气氛对薄膜结构的影响 | 第65-66页 |
| ·溅射工艺 | 第66-67页 |
| ·结晶处理 | 第67页 |
| ·样品测试 | 第67-70页 |
| ·膜厚测试 | 第67-68页 |
| ·台阶仪原理 | 第67-68页 |
| ·膜厚测试 | 第68页 |
| ·原子力（AFM）显微镜观察表面形貌 | 第68-70页 |
| 第六章 结论 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 研究生期间发表的论文 | 第77-78页 |
