| 第一章 绪论 | 第1-25页 |
| ·引言 | 第13页 |
| ·纳米材料的特性 | 第13-15页 |
| ·小尺寸效应 | 第14页 |
| ·表面与界面效应 | 第14页 |
| ·量子尺寸效应 | 第14-15页 |
| ·宏观量子隧道效应 | 第15页 |
| ·久保理论 | 第15页 |
| ·纳米材料的应用 | 第15-16页 |
| ·纳米TiO_2的应用领域 | 第16-17页 |
| ·纳米TiO_2的光催化效应 | 第17-23页 |
| ·TiO_2光催化反应机理 | 第18页 |
| ·影响TiO_2催化反应的因素 | 第18-21页 |
| ·晶体结构和晶粒大小 | 第18-20页 |
| ·晶体缺陷 | 第20页 |
| ·表面结构 | 第20-21页 |
| ·热处理 | 第21页 |
| ·pH值 | 第21页 |
| ·光降解环境 | 第21页 |
| ·提高光催化效率的方法 | 第21-23页 |
| ·SiO_2的掺杂对光催化活性的影响 | 第23-24页 |
| ·课题研究的内容和意义 | 第24-25页 |
| 第二章 粉体的制备及表征方法 | 第25-35页 |
| ·纳米复合氧化物的制备方法 | 第25-30页 |
| ·机械化学法 | 第25页 |
| ·固相反应法 | 第25-26页 |
| ·液相法 | 第26-29页 |
| ·溶液反应法 | 第26-29页 |
| ·微乳液法 | 第29页 |
| ·其他方法 | 第29页 |
| ·气相法 | 第29-30页 |
| ·溶胶—凝胶法(sol—gel法)的工艺特点 | 第30页 |
| ·实验目的和内容 | 第30-32页 |
| ·实验流程 | 第30-31页 |
| ·sol—gel法制备TiO_2粉体工艺 | 第30页 |
| ·sol—gel法制备TiO_2／SiO_2粉体工艺 | 第30-31页 |
| ·试验原料表 | 第31-32页 |
| ·复合粉体的表征 | 第32-35页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第32-33页 |
| ·比表面积法(BET)分析 | 第33页 |
| ·透射电镜(TEM)分析 | 第33页 |
| ·光电子能谱(XPS)分析 | 第33-35页 |
| 第三章 纳米TiO_2／SiO_2复合粉体的制备及表征 | 第35-47页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·掺杂离子对TiO_2光催化活性的影响 | 第35-36页 |
| ·掺杂离子种类对光活性的影响 | 第35页 |
| ·掺杂离子浓度对光活性的影响 | 第35-36页 |
| ·SiO_2对TiO_2光催化剂性能的影响 | 第36页 |
| ·不同比例的TiO_2／SiO_2复合光催化剂的制备 | 第36-37页 |
| ·配方成分的计算 | 第36-37页 |
| ·成分配比 | 第37页 |
| ·TiO_2／SiO_2复合粉末的焙烧 | 第37-38页 |
| ·测试结果及分析 | 第38-45页 |
| ·XRD分析 | 第38-41页 |
| ·IR分析 | 第41-42页 |
| ·XPS分析 | 第42-43页 |
| ·BET分析 | 第43-44页 |
| ·TEM分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 光催化降解甲基橙实验及结果分析 | 第47-57页 |
| ·光降解的原理 | 第47页 |
| ·光降解实验 | 第47-48页 |
| ·光降解实验的设计 | 第47页 |
| ·实验光源的选择 | 第47-48页 |
| ·光降解活性的测定 | 第48-49页 |
| ·光催化降解甲基橙 | 第49-55页 |
| ·甲基橙染料最大吸收波长 | 第49-50页 |
| ·影响光催化降解性能的因素确定 | 第50-52页 |
| ·甲基橙溶液初始浓度 | 第50-51页 |
| ·催化剂用量 | 第51-52页 |
| ·粉体的光催化降解性能测试 | 第52-55页 |
| ·光照时间对光催化降解性能的影响 | 第52-54页 |
| ·SiO_2掺入量对光催化降解性能的影响 | 第54页 |
| ·热处理温度对光催化降解性能的影响 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 全文总结与前景展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-61页 |
