氧化锌薄膜生长和退火对薄膜质量的影响
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·课题背景 | 第9页 |
| ·ZnO薄膜的性质 | 第9-11页 |
| ·生长ZnO薄膜的衬底材料 | 第11-14页 |
| ·ZnO 薄膜的生长方法 | 第14-15页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD） | 第14页 |
| ·分子束外延（MBE） | 第14-15页 |
| ·金属有机物化学气相沉积（MOCVD） | 第15页 |
| ·溅射（Sputtering） | 第15页 |
| ·ZnO薄膜材料的应用 | 第15-17页 |
| ·光电器件应用 | 第15-16页 |
| ·压电性能应用 | 第16-17页 |
| ·其它应用 | 第17页 |
| ·本文研究的目的和主要内容 | 第17-19页 |
| 第2章 薄膜生长和试验方法 | 第19-25页 |
| ·反应磁控溅射方法 | 第19页 |
| ·样品制备 | 第19-22页 |
| ·衬底的选取和制备 | 第19-21页 |
| ·ZnO薄膜生长 | 第21-22页 |
| ·试验方法 | 第22-25页 |
| ·X射线衍射方法（XRD） | 第23页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第23页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第23页 |
| ·X射线光电子能谱（XPS） | 第23-24页 |
| ·紫外—可见光谱分析 | 第24页 |
| ·光致发光(PL) | 第24页 |
| ·霍尔效应测试 | 第24-25页 |
| 第3章 氧化锌薄膜生长动力学研究 | 第25-36页 |
| ·薄膜生长动力学 | 第25-27页 |
| ·薄膜表面形貌测试 | 第27-33页 |
| ·形貌分析 | 第27-29页 |
| ·峰的密度的分析 | 第29-30页 |
| ·功率密度谱分析 | 第30-33页 |
| ·生长动力学分析 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第4章 LiNbO_3单晶衬底生长ZnO薄膜 | 第36-47页 |
| ·在LiNbO_3上生长的ZnO薄膜的特点 | 第36-39页 |
| ·晶体结构 | 第36-38页 |
| ·表面形貌 | 第38-39页 |
| ·紫外—可见透过性能 | 第39页 |
| ·O_2/Ar对薄膜的影响 | 第39-41页 |
| ·衬底温度 | 第41-45页 |
| ·衬底温度对结构影响 | 第42-44页 |
| ·衬底温度对表面形貌的影响 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-47页 |
| 第5章 退火对氧化锌薄膜的影响 | 第47-60页 |
| ·结构分析 | 第47-49页 |
| ·电学性能分析 | 第49-51页 |
| ·发光性能分析 | 第51-52页 |
| ·成分分析 | 第52-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位论文原创性声明 | 第65页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位论文使用授权书 | 第65页 |
| 哈尔滨工业大学硕士学位涉密论文管理 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
