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离子辅助中频非平衡磁控溅射制备类金刚石薄膜

独创性声明第1-4页
摘要第4-6页
ABSTRACT第6-12页
第一章 绪论第12-28页
   ·类金刚石研究背景第12页
   ·类金刚石的结构与分类第12-14页
   ·类金刚石的性能第14-15页
     ·力学性能第14页
     ·电学性能第14-15页
     ·光学性能第15页
     ·其它性能第15页
   ·类金刚石的制备技术第15-20页
     ·物理气相沉积(PVD)第15-18页
     ·化学气相沉积(CVD)第18-20页
   ·类金刚石的表征第20-22页
   ·类金刚石的应用第22-23页
     ·机械加工行业的应用第22页
     ·电学上的应用第22-23页
     ·光学上的应用第23页
     ·医学上的应用第23页
     ·其它方面的应用第23页
   ·类金刚石薄膜改性第23-25页
   ·类金刚石膜的生长机理模型第25-26页
     ·热峰模型第25页
     ·离子刻蚀模型第25-26页
     ·亚表面注入模型第26页
   ·本论文的主要研究内容第26-28页
第二章 实验设备及分析方法第28-38页
   ·实验设备第28-30页
   ·类金刚石薄膜分析方法第30-38页
     ·扫描电子显微镜(SEM)第30-31页
     ·原子力显微镜(AFM)第31页
     ·X射线衍射仪(XRD)第31-32页
     ·激光拉曼光谱(Raman)第32-33页
     ·微纳米力学综合测试系统(CSM)第33-36页
     ·轮廓仪(Surface Profilometer)第36页
     ·摩擦磨损试验机(Tribometer)第36-37页
     ·色差仪(Spectrophotometer)第37-38页
第三章 中频非平衡磁控溅射制备非氢类金刚石薄膜第38-61页
   ·磁控溅射技术第38-39页
   ·非平衡磁控溅射技术第39-41页
   ·孪生中频溅射技术第41页
   ·霍尔离子源第41-42页
   ·石墨靶材的选择及安装第42页
   ·薄膜的制备第42-45页
     ·基片的选择及预处理第42-43页
     ·霍尔源辅助中频非平衡磁控溅射制备DLC膜过渡层工艺参数的确定第43页
     ·霍尔源辅助中频非平衡磁控溅射制备DLC膜工艺参数的确定第43-45页
     ·霍尔源辅助中频非平衡磁控溅射制备DLC膜工艺流程第45页
   ·基底偏压对类金刚石薄膜的影响第45-49页
     ·薄膜表面形貌分析第45-46页
     ·表面粗糙度分析第46页
     ·激光拉曼光谱分析第46-49页
     ·硬度与弹性模量第49页
   ·基底温度对类金刚石薄膜的影响第49-54页
     ·薄膜表面形貌分析第49-50页
     ·表面粗糙度分析第50-51页
     ·激光拉曼光谱分析第51-53页
     ·硬度与弹性模量第53-54页
   ·霍尔放电电流对类金刚石薄膜的影响第54-58页
     ·薄膜表面形貌分析第54页
     ·表面粗糙度分析第54-55页
     ·激光拉曼光谱分析第55-57页
     ·硬度与弹性模量第57页
     ·色差分析第57-58页
   ·本章小结第58-61页
     ·基底偏压对类金刚石薄膜的影响第58-59页
     ·基底温度对类金刚石薄膜的影响第59页
     ·霍尔放电电流对类金刚石薄膜的影响第59-61页
第四章 氮气对沉积类金刚石薄膜的影响第61-70页
   ·试验工艺参数的确定第61页
   ·沉积速率第61-62页
   ·表面形貌分析第62-63页
   ·激光拉曼光谱分析第63-65页
   ·硬度与弹性模量第65页
   ·色差分析第65-67页
   ·a-C:N薄膜的摩擦系数第67-68页
   ·本章小结第68-70页
第五章 过渡层及不同基底对沉积类金刚石薄膜的影响第70-82页
   ·基片的预处理第70页
   ·试验工艺参数的确定第70-72页
   ·过渡层相结构分析第72-75页
   ·扫描电子显微镜及线扫描分析第75-76页
   ·激光拉曼光谱分析第76-77页
   ·类金刚石薄膜的结合力第77-79页
     ·附加载荷三阶段分析第77-78页
     ·不同基材对类金刚石薄膜结合力的影响第78-79页
   ·类金刚石薄膜摩擦系数第79-80页
   ·本章小结第80-82页
第六章 结论与建议第82-85页
   ·结论第82-84页
   ·建议第84-85页
参考文献第85-89页
致谢第89-90页
攻读硕士学位期间发表的论文第90页

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