GaAs基共振隧穿压阻式加速度计研究
| 1. 引言 | 第1-21页 |
| ·研究意义 | 第8-10页 |
| ·国内外研究的概况和发展趋势 | 第10-20页 |
| ·纳机电器件发展概况 | 第10-12页 |
| ·GaAs 微器件发展概况 | 第12-15页 |
| ·微加速度计的发展概况与趋势 | 第15-20页 |
| ·本课题的研究内容 | 第20-21页 |
| 2. 共振隧穿压阻式加速度计的理论基础 | 第21-30页 |
| ·介观压阻效应 | 第21-28页 |
| ·介观压阻效应理论 | 第21-24页 |
| ·RTD 的介观压阻效应及其优点 | 第24-28页 |
| ·GAAS 基压阻式加速度计传感机理 | 第28-30页 |
| 3. GAAS 基微机械加速度计的结构设计 | 第30-54页 |
| ·RTD 结构设计 | 第30-35页 |
| ·GAAS 基压阻式加速度计的方案选择 | 第35-37页 |
| ·常用的压阻式加速度计的结构 | 第35-36页 |
| ·GaAs 基压阻式加速度计的结构方案确定 | 第36-37页 |
| ·加速度计结构设计 | 第37-54页 |
| ·设计原则 | 第37-40页 |
| ·悬臂梁加速度计的力学特性 | 第40-42页 |
| ·悬臂梁加速度计的频率特性 | 第42-44页 |
| ·设计考虑及参数选择 | 第44-46页 |
| ·加速度计的仿真分析 | 第46-53页 |
| ·加速度计结构确定 | 第53-54页 |
| 4. GAAS 基微机械加速度计的工艺研究 | 第54-85页 |
| ·化合物半导体主要工艺 | 第54-66页 |
| ·清洗工艺 | 第54-59页 |
| ·光刻工艺 | 第59-60页 |
| ·腐蚀工艺 | 第60-63页 |
| ·剥离工艺 | 第63页 |
| ·薄膜淀积 | 第63-65页 |
| ·离子注入 | 第65-66页 |
| ·器件关键工艺 | 第66-75页 |
| ·薄膜生长工艺确定 | 第66-69页 |
| ·欧姆接触工艺 | 第69-71页 |
| ·空气桥工艺 | 第71-73页 |
| ·梁质量块工艺确定 | 第73-75页 |
| ·加速度计的版图设计及其工艺流程 | 第75-85页 |
| ·版图设计 | 第75-77页 |
| ·具体的工艺流程 | 第77-82页 |
| ·工艺结果及讨论 | 第82-85页 |
| 5. 实验测试 | 第85-92页 |
| ·加速度计测试系统搭建 | 第85-87页 |
| ·实验测试及结果分析 | 第87-92页 |
| 结论和展望 | 第92-94页 |
| 附录 | 第94-98页 |
| 参考文献 | 第98-103页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第103-104页 |
| 致谢 | 第104页 |
