| 目录 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-8页 |
| 第二章 文献综述 | 第8-26页 |
| 2．1 镀膜玻璃的发展概况 | 第8-10页 |
| 2．2 薄膜均匀性研究现状 | 第10-12页 |
| 2．3 薄膜附着力及表征、评价 | 第12-14页 |
| 2．4 镀膜玻璃的制备技术 | 第14-17页 |
| 2．4．1 真空蒸镀法 | 第14页 |
| 2．4．2 溅射镀膜法 | 第14-15页 |
| 2．4．3 电浮法镀膜 | 第15-16页 |
| 2．4．4 热喷涂镀膜法 | 第16页 |
| 2．4．5 化学气相沉积法 | 第16-17页 |
| 2．5 影响薄膜沉积的工艺条件及影响薄膜质量的因素 | 第17-20页 |
| 2．6 薄膜结构的表征、评价技术 | 第20-23页 |
| 2．7 薄膜成分表征 | 第23-24页 |
| 2．8 本文的研究内容以及意义 | 第24-26页 |
| 第三章 实验方法 | 第26-34页 |
| 3．1 实验设备 | 第26-27页 |
| 3．2 实验原料 | 第27-28页 |
| 3．3 样品的制备 | 第28-30页 |
| 3．3．1 基板的清洗 | 第28页 |
| 3．3．2 样品制备步骤 | 第28-29页 |
| 3．3．3 制备宏观均匀薄膜样品的工艺参数控制 | 第29-30页 |
| 3．4 测试方法 | 第30-34页 |
| 3．4．1 傅立叶变换红外光谱分析 | 第30页 |
| 3．4．2 原子力显微镜 | 第30-31页 |
| 3．4．3 拉曼光谱 | 第31页 |
| 3．4．4 透射电子显微镜 | 第31页 |
| 3．4．5 扫描电镜(SEM) | 第31页 |
| 3．4．6 薄膜透、反射光谱的测量 | 第31页 |
| 3．4．7 薄膜与基板之间附着力的测试 | 第31-34页 |
| 第四章 微结构及其均匀性分析 | 第34-51页 |
| 4．1 基板温度对薄膜组成和结构及薄膜微结构均匀性影响 | 第34-43页 |
| 4．1．1 沉积薄膜的厚度随温度变化关系 | 第34-36页 |
| 4．1．2 FTIR光谱分析 | 第36页 |
| 4．1．3 Raman光谱分析 | 第36-38页 |
| 4．1．4 高分辨电镜(HRTEM)结果分析 | 第38-41页 |
| 4．1．5 原子力显微镜(AFM)结果分析 | 第41-43页 |
| 4．2 磷烷掺杂对薄膜组成和结构及薄膜微结构均匀性影响 | 第43-51页 |
| 4．2．1 拉曼光谱分析 | 第43-44页 |
| 4．2．2 掺磷对沉积薄膜厚度的影响 | 第44-45页 |
| 4．2．3 高分辨电镜结果分析 | 第45-46页 |
| 4．2．4 原子力显微镜结果分析 | 第46-51页 |
| 第五章 硅薄膜的光学性能分析 | 第51-59页 |
| 5．1 沉积温度对薄膜样品光学性能影响 | 第51-53页 |
| 5．2 掺杂气体对薄膜样品光学特性的影响 | 第53-59页 |
| 5．2．1 乙烯掺杂对薄膜样品光学性能的影响 | 第53-56页 |
| 5．2．2 磷烷掺杂对薄膜样品光学性能的影响 | 第56-59页 |
| 第六章 硅薄膜与基板间附着力分析 | 第59-66页 |
| 6．1 乙烯掺杂对薄膜与基板间附着力的影响 | 第59-62页 |
| 6．2 磷烷掺杂对薄膜与基板间附着力的影响 | 第62-66页 |
| 第七章 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 附录 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
