柔性透明导电薄膜的研究
| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-23页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第8-10页 |
| ·ZnO柔性透明导电薄膜的研究进展 | 第10-12页 |
| ·叠层透明导电薄膜的研究进展 | 第12-14页 |
| ·ALD制备透明导电薄膜的研究进展 | 第14-17页 |
| ·研究目标 | 第17-18页 |
| ·研究内容 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-23页 |
| 第二章 薄膜制备技术及性能测量方法 | 第23-34页 |
| ·磁控溅射镀膜技术 | 第23-25页 |
| ·原子层沉积系统 | 第25-27页 |
| ·原子层沉积基本原理 | 第25-26页 |
| ·原子层沉积系统的基本结构 | 第26页 |
| ·ALD技术的应用 | 第26-27页 |
| ·薄膜的性能分析方法 | 第27-33页 |
| ·电学性能的测量 | 第27-31页 |
| ·光学性能的测量 | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-34页 |
| 第三章 叠层透明导电薄膜的制备及研究 | 第34-52页 |
| ·ZnO/In/ZnO叠层薄膜的制备及性能分析 | 第34-42页 |
| ·ZnO/In/ZnO叠层薄膜的制备 | 第34-35页 |
| ·分析方法和测试方法 | 第35-36页 |
| ·ZnO/In/ZnO叠层薄膜的电学性能分析 | 第36-39页 |
| ·ZnO/In/ZnO叠层薄膜的光学性能分析 | 第39-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| ·AZO/Cu/AZO叠层薄膜的制备及性能分析 | 第42-50页 |
| ·AZO/Cu/AZO叠层薄膜的制备 | 第42页 |
| ·分析方法和测试方法 | 第42-43页 |
| ·AZO/Cu/AZO叠层薄膜电学性能分析 | 第43-44页 |
| ·AZO/Cu/AZO叠层薄膜光学性能分析 | 第44-47页 |
| ·AZO/Cu/AZO叠层薄膜的弯曲性能 | 第47-49页 |
| ·小结 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 第四章 纳米阵列结构AZO透明导电薄膜 | 第52-65页 |
| ·ALD与溅射制备AZO薄膜及其性能分析 | 第52-57页 |
| ·AZO薄膜制备方法 | 第52页 |
| ·分析方法和测试方法 | 第52页 |
| ·制备方法对表面形貌及性能的影响 | 第52-57页 |
| ·小结 | 第57页 |
| ·薄膜厚度对AZO表而形貌及电学和光学性能的影响 | 第57-63页 |
| ·AZO薄膜制备方法 | 第57-58页 |
| ·AZO薄膜性能测试方法 | 第58页 |
| ·AZO薄膜性能分析 | 第58-61页 |
| ·小结 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 第五章 总结与展望 | 第65-66页 |
| 硕士期间主要研究成果 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
