摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-6页 |
目录 | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第8-18页 |
·铁电材料 | 第8-10页 |
·铁电薄膜 | 第10-14页 |
·本论文选题依据及主要研究内容 | 第14-16页 |
参考文献 | 第16-18页 |
第二章 实验研究方法 | 第18-32页 |
·铁电薄膜的制备技术 | 第18-22页 |
·铁电薄膜物化结构性能表征 | 第22-29页 |
·膜厚的测定 | 第23页 |
·薄膜的化学成分分析[28,29] | 第23-24页 |
·薄膜的组织和形貌[28,29] | 第24-25页 |
·结构测定[28,29] | 第25-26页 |
·薄膜材料的光学透射谱及色散关系[30] | 第26-29页 |
参考文献 | 第29-32页 |
第三章 LaNi03导电薄膜的制备与性能研究 | 第32-40页 |
·引言 | 第32-33页 |
·LaNi03 薄膜的制备 | 第33-34页 |
·不同厚度对LaNi03 薄膜结构的影响 | 第34-35页 |
·不同晶化温度对LaNi03 薄膜结构的影响 | 第35-37页 |
·薄膜厚度、退火温度和放置时间对薄膜导电性的影响 | 第37-38页 |
·小结 | 第38-39页 |
参考文献 | 第39-40页 |
第四章Bi4Ti3012薄膜的制备与性能研究 | 第40-56页 |
·概论 | 第40-42页 |
·前驱体溶液制备工艺的探索与结果 | 第42-47页 |
·试验 | 第42-43页 |
·溶剂对胶粒大小的影响 | 第43-44页 |
·催化剂对胶粒大小的影响 | 第44页 |
·溶液浓度对胶粒大小的影响 | 第44-45页 |
·不同溶剂和甲酰胺对胶体溶液时间稳定性的影响 | 第45-47页 |
·BTO 薄膜的制备 | 第47-50页 |
·前驱体溶液的制备 | 第47-49页 |
·BTO 薄膜的制备 | 第49页 |
·BTO 薄膜退火处理工艺简介 | 第49-50页 |
·不同退火温度对晶体结构的影响 | 第50-51页 |
·钛酸铋薄膜的光学性质 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
参考文献 | 第53-56页 |
第五章 Bi3.25La0.75Ti3012薄膜的制备与性能研究 | 第56-72页 |
·概述 | 第56-57页 |
·Bi3.25La0.75Ti3012 薄膜的制备 | 第57页 |
·Bi3.25La0.75Ti3012 薄膜形貌及微结构 | 第57-59页 |
·退火温度对薄膜晶体结构和表面形貌的影响 | 第59-62页 |
·退火温度对薄膜晶体结构的影响 | 第59-60页 |
·退火温度对薄膜表面形貌的影响 | 第60-62页 |
·衬底对薄膜结构的影响 | 第62页 |
·Bi3.25La0.75Ti3012 薄膜光学性质研究 | 第62-69页 |
·BLT 薄膜光学性质研究 | 第62-65页 |
·薄膜厚度对BLT 薄膜光学性质的影响 | 第65-67页 |
·退火温度对BLT 薄膜光学性质的影响 | 第67-69页 |
·本章小结 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-72页 |
结论 | 第72-73页 |
攻读硕士学位期间已发表和递交的论文 | 第73-74页 |
致谢 | 第74页 |