Cu（Ⅰ）金属有机化学气相沉积前驱物的合成与表征
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 研究背景和文献综述 | 第9-22页 |
| ·前言 | 第9-10页 |
| ·铜薄膜的化学气相沉积 | 第10-13页 |
| ·MOCVD对前驱物的要求 | 第11-12页 |
| ·前驱物的分子设计 | 第12-13页 |
| ·文献综述 | 第13-19页 |
| 参考文献 | 第19-22页 |
| 第二章 Cu(Ⅰ)MOCVD前驱物的合成 | 第22-40页 |
| ·MOCVD前驱物合成装置 | 第22-28页 |
| ·无水无氧操作系统 | 第22-24页 |
| ·溶剂预处理系统 | 第24页 |
| ·反应原料裂解制备系统 | 第24-26页 |
| ·MOCVD前驱物合成系统 | 第26页 |
| ·MOCVD前驱物减压升华纯化系统 | 第26-28页 |
| ·合成MOCVD前驱物的实验药品、材料 | 第28-29页 |
| ·实验药品 | 第28-29页 |
| ·实验材料 | 第29页 |
| ·MOCVD前驱物的合成 | 第29-35页 |
| ·MOCVD前驱物合成机理 | 第29-30页 |
| ·MOCVD前驱物合成反应 | 第30页 |
| ·MOCVD前驱物合成步骤 | 第30-35页 |
| 附录：无水无氧操作技术 | 第35-40页 |
| 第三章 Cu(Ⅰ)MOCVD前驱物的表征与分析 | 第40-57页 |
| ·分析仪器 | 第40页 |
| ·MOCVD前驱物的表征与分析 | 第40-56页 |
| ·(hfac)Cu(Ⅰ)(COD)的表征与分析 | 第40-42页 |
| ·(hfac)Cu(Ⅰ)(CPE)的表征与分析 | 第42-44页 |
| ·(hfac)Cu(Ⅰ)(CPD)的表征与分析 | 第44-56页 |
| 参考文献 | 第56-57页 |
| 第四章 2-甲氧基丙烯生产中有关体系的共沸点研究 | 第57-74页 |
| ·前言 | 第57-58页 |
| ·共沸点测定的基本思路 | 第58-61页 |
| ·仪器装置 | 第61-62页 |
| ·精馏平衡釜 | 第61-62页 |
| ·测温系统 | 第62页 |
| ·测压与控压系统 | 第62页 |
| ·2-甲氧基丙烯的合成 | 第62-64页 |
| ·二元共沸点的测定 | 第64-69页 |
| ·物料预处理 | 第64-65页 |
| ·组成分析方法 | 第65页 |
| ·共沸点的测定 | 第65-68页 |
| ·共沸数据的关联 | 第68-69页 |
| ·结果与讨论 | 第69-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 第五章 总结与展望 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 附录 | 第76页 |
