| 第一章 钒氧化物薄膜的变色特性及研究进展 | 第1-19页 |
| ·钒氧化物体系及基本性质 | 第9-10页 |
| ·V_2O_5薄膜的电致变色特性与微观结构 | 第10-13页 |
| ·电致变色效应和电色器件 | 第10-11页 |
| ·V_2O_5晶体结构 | 第11-12页 |
| ·V_2O_5能带结构 | 第12-13页 |
| ·VO_2薄膜的热致变色特性与微观结构 | 第13-16页 |
| ·VO_2热致变色特性 | 第13-14页 |
| ·VO_2晶体结构与热致变色机理 | 第14-15页 |
| ·VO_2能带结构与热致变色机理 | 第15-16页 |
| ·V_2O_5和VO_2薄膜的应用 | 第16-18页 |
| ·本文的选题依据及研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 薄膜的制备和测试 | 第19-28页 |
| ·薄膜的制备方法与研究现状 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射的基本原理 | 第20-21页 |
| ·氧化钒薄膜的制备 | 第21-23页 |
| ·样品的测试方法 | 第23-28页 |
| 第三章 V_2O_5和VO_2薄膜微观结构的研究 | 第28-50页 |
| ·V_2O_5薄膜 | 第28-38页 |
| ·氧分压对薄膜成分和沉积速率的影响 | 第28-30页 |
| ·氧分压对V_2O_5薄膜结晶取向和微观形貌的影响 | 第30-32页 |
| ·衬低温度及衬底材料对V_2O_5薄膜微观形貌的影响 | 第32-35页 |
| ·V_2O_5薄膜的FTIR的分析 | 第35-36页 |
| ·V_2O_5薄膜的XPS分析 | 第36-38页 |
| ·VO_2薄膜 | 第38-45页 |
| ·退火温度和时间对薄膜微观结构的影响 | 第39-42页 |
| ·退火真空度对薄膜微观结构的影响 | 第42-43页 |
| ·衬底对VO_2薄膜的影响 | 第43-45页 |
| ·V_2O_5和VO_2薄膜的比较 | 第45-48页 |
| ·V_2O_5和VO_2薄膜晶体结构的比较 | 第45-46页 |
| ·V_2O_5和VO_2薄膜能带结构比较和化学价态分析 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 V_2O_5和VO_2薄膜变色性能的研究 | 第50-59页 |
| ·V_2O_5薄膜电致变色性能的研究 | 第50-56页 |
| ·氧分压对薄膜电变色性能的影响 | 第50-53页 |
| ·薄膜厚度对电变色性能影响 | 第53-54页 |
| ·V_2O_5薄膜不同状态的XPS分析 | 第54-56页 |
| ·VO_2薄膜性能的研究 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 结论 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
