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SmCo及SmCo/TbDyFe薄膜的制备与研究

中文摘要第1-6页
英文摘要第6-8页
第一章 前言第8-21页
 1.1 稀土永磁材料的研究概况第8-10页
  1.1.1 稀土永磁材料的发展历史第8-9页
  1.1.2 稀土永磁材料的磁性来源第9页
  1.1.3 SmCo永磁薄膜的研究现状第9-10页
 1.2 超磁致伸缩材料的研究概况第10-12页
 1.3 磁致伸缩起源及唯象表述第12-14页
  1.3.1 磁致伸缩产生机理第12-13页
  1.3.2 稀土离子超磁致伸缩的起源第13页
  1.3.3 磁致伸缩的唯象理论第13-14页
 1.4 超磁致伸缩薄膜的研究进展第14-19页
  1.4.1 超磁致伸缩薄膜的制备方法第14-15页
  1.4.2 超磁致伸缩薄膜的研究重点及解决途径第15-17页
  1.4.3 超磁致伸缩薄膜的应用第17-19页
   1.4.3.1 超磁致伸缩材料的应用特点第17-18页
   1.4.3.2 超磁致伸缩薄膜的应用第18-19页
 1.5 课题的来源及研究内容第19-21页
  1.5.1 选题依据第19-20页
  1.5.2 课题来源第20页
  1.5.3 研究内容第20-21页
第二章 实验部分第21-34页
 2.1 磁控溅射镀膜第21-24页
  2.1.1 磁控溅射原理第21-22页
  2.1.2 磁控溅射设备第22-23页
  2.1.3 溅射靶材第23页
  2.1.4 漂洗衬底第23-24页
  2.1.5 直流溅射镀膜第24页
 2.2 薄膜的热处理第24-25页
 2.3 膜厚的测量第25-26页
 2.4 薄膜表面观测第26页
 2.5 结构与成分分析第26页
 2.6 磁性能测试第26页
 2.7 薄膜磁致伸缩的测量第26-34页
  2.7.1 悬臂梁法测量薄膜磁致伸缩系数原理第26-29页
  2.7.2 电容法测量挠度第29-31页
  2.7.3 薄膜磁致伸缩系数测量的标定第31-32页
  2.7.4 薄膜磁致伸缩系数的测量第32页
  2.7.5 薄膜磁致伸缩系数测量的误差分析第32-34页
第三章 结果与讨论第34-58页
 3.1 SmCo薄膜的制备工艺研究第34-37页
  3.1.1 溅射工艺参数的正交设计及方差分析第34-35页
  3.1.2 溅射功率对薄膜沉积速率的影响第35页
  3.1.3 靶基距对薄膜沉积速率的影响第35-36页
  3.1.4 氩气压力对薄膜沉积速率的影响第36页
  3.1.5 溅射工艺参数对薄膜表观质量的影响第36-37页
 3.2 SmCo薄膜的磁性能研究第37-43页
  3.2.1 SmCo薄膜的磁性能第37-39页
  3.2.2 成分对SmCo薄膜磁性能的影响第39-40页
  3.2.3 热处理对SmCo薄膜磁性能和结构的影响第40-43页
 3.3 TbDyFe薄膜磁致伸缩性能研究第43-52页
  3.3.1 TbDyFe薄膜的制备第43-44页
  3.3.2 薄膜磁致伸缩系数测量的磁弹性模量修正第44-45页
   3.3.2.1 薄膜磁致伸缩系数测量的Matlab程序编写第44页
   3.3.2.2 薄膜磁致伸缩系数测量的磁弹性模量修正第44-45页
  3.3.3 薄膜厚度对TbDyFe薄膜磁致伸缩效应的影响第45-46页
  3.3.4 热处理对TbDyFe薄膜磁致伸缩效应的影响第46-50页
  3.3.5 衬底粗糙度对TbDyFe薄膜磁致伸缩效应的影响第50-52页
 3.4 SmCo/TbDyFe复合薄膜磁致伸缩性能研究第52-58页
  3.4.1 SmCo的复合对TbDyFe薄膜磁致伸缩特性的影响第52-56页
  3.4.2 热处理对复合薄膜磁致伸缩性能的影响第56页
  3.4.3 衬底粗糙度对复合薄膜磁致伸缩性能的影响第56-58页
第四章 结论第58-59页
第五章 工作展望第59-60页
致谢第60-61页
附录第61-64页
参考文献第64-66页

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