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半导体中光激发强度相关的非线性区域响应的研究

目录第1-4页
中文摘要第4-6页
英文摘要第6-8页
第一章 绪论第8-16页
   ·引言第8-9页
   ·半导体中的光吸收响应第9-10页
   ·表面光电压第10-11页
   ·局域热效应第11-12页
   ·本论文的章节安排第12-13页
 参考文献第13-16页
第二章 实验方法第16-34页
   ·简介第16页
   ·飞秒激光器系统第16-19页
   ·飞秒激光脉冲宽度的测量第19-22页
   ·实验方法和装置第22-29页
   ·-1 系统的硬件设备和软件的组成第22-27页
   ·-2 表面光电压实验方法和装置第27-28页
   ·-3 光致荧光实验方法和装置第28-29页
   ·锁相放大器测试原理第29-32页
   ·本章小结第32-33页
 参考文献第33-34页
第三章 Si肖特基结中激发强度相关的表面光电压研究第34-67页
   ·引言第34页
   ·Si肖特基结中的表面光电压第34-44页
   ·-1 理论原理第34-41页
   ·-2 测量结果第41-44页
   ·弱光激发下的Si肖特基结中的表面光电压的技术应用第44-56页
   ·-1 测量飞秒激光的特性第44-48页
   ·-2 测量半导体的双光子吸收系数第48-56页
   ·Si肖特基结中的表面光电压的激发强度相关性研究第56-63页
   ·-1 简介第56页
   ·-2 实验方法和实验结果第56-60页
   ·-3 肖特基结中内建电势和丹倍效应的讨论第60-63页
   ·本章小结第63-65页
 参考文献第65-67页
第四章(In/Ga)As量子点中激发强度相关的光致荧光的研究第67-85页
   ·简介第67-69页
   ·自组织生长量子点结构中的浸润层第69-70页
   ·样品介绍和实验方法第70-72页
   ·实验结果和讨论第72-82页
   ·本章小结第82页
 参考文献第82-85页
第五章 全文总结第85-87页
附录第87-89页
 在读期间已发表的文章第87-88页
 致谢第88-89页

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