| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-18页 |
| ·RTP快速热退火介绍 | 第9-15页 |
| ·快速热退火设备介绍 | 第9-10页 |
| ·RTP快速热退火用途 | 第10-12页 |
| ·注入、恢复损伤及退火原理 | 第12-15页 |
| ·离子注入工艺简介 | 第12页 |
| ·注入损伤及退火原理 | 第12-15页 |
| ·传统炉管和快速热处理工艺对比 | 第15-18页 |
| ·炉管退火和 RTP快速热处理对器件电参数影响 | 第17-18页 |
| 第二章 快速热退火温度均匀性和温度监控探讨 | 第18-34页 |
| ·快速热退火温度均匀性的研究 | 第18-28页 |
| ·快速热退火(RTP)的热均匀性控制的重要性 | 第19-22页 |
| ·优化 RTP温度均匀性的设计方案(轴对称排列灯阵列) | 第22-26页 |
| ·轴对称排列灯阵列的设计原则 | 第23页 |
| ·最佳设计参数的计算 | 第23-26页 |
| ·RTP温度均匀性的实验数据 | 第26-28页 |
| ·快速热退火温度监控 | 第28-33页 |
| ·快速热退火温度测量 | 第28-32页 |
| ·光测高温术 | 第28-31页 |
| ·热板法 | 第31页 |
| ·直接热电偶测量法 | 第31-32页 |
| ·温度控制 | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 不同杂质在 RTP设备控制温度区间的数据 | 第34-46页 |
| ·工艺试验和数据分析 | 第34-43页 |
| ·注入能量对方块电阻随温度变化的影响 | 第35-37页 |
| ·重杂质离子砷(As75)注入的薄层电阻对温度的敏感度 | 第37-40页 |
| ·轻杂质离子硼(Bll)注入的薄层电阻对温度的敏感度 | 第40-43页 |
| ·RTP生成氧化膜和评价氧化膜的方法介绍 | 第43-46页 |
| ·RTP生成氧化膜 | 第43-44页 |
| ·评价氧化膜的方法 | 第44-46页 |
| 第四章 用 RTP解决氧化层的损伤造成的工艺问题 | 第46-53页 |
| ·氧化层损伤造成的工艺问题 | 第46-48页 |
| ·氧化层损伤问题的解决 | 第48-51页 |
| ·LPNP管的会出现随机短路问题的实验验证 | 第48页 |
| ·改进和解决方案 | 第48-51页 |
| ·小结 | 第51-53页 |
| 第五章 结论 | 第53-54页 |
| 第六章 快速热退火的展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
