| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-34页 |
| ·自旋电子学概述 | 第12-17页 |
| ·自旋电子学的兴起与研究意义 | 第12-14页 |
| ·自旋电子器件的主要应用 | 第14-17页 |
| ·稀磁材料概述 | 第17-25页 |
| ·稀磁材料的基本概念 | 第17-19页 |
| ·稀磁材料的发展历程 | 第19-21页 |
| ·稀磁材料的基本性质 | 第21-24页 |
| ·磁性材料的制备工艺 | 第24-25页 |
| ·磁性氧化物中磁有序的物理机制 | 第25-30页 |
| ·磁性第二相 | 第25-27页 |
| ·载流子调制机制 | 第27-29页 |
| ·束缚磁极子机制 | 第29-30页 |
| ·基于稀磁薄膜的异质结构 | 第30-32页 |
| ·本论文的思路及内容 | 第32-34页 |
| 第2章 实验方法 | 第34-48页 |
| ·稀磁氧化物样品的制备 | 第34-37页 |
| ·磁控溅射技术 | 第34-36页 |
| ·离子注入技术 | 第36-37页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第37页 |
| ·稀磁氧化物的微结构和成分分析 | 第37-41页 |
| ·透射电子显微镜 | 第38页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第38页 |
| ·反射式高能电子衍射 | 第38-39页 |
| ·X 射线衍射 | 第39-40页 |
| ·原子力显微镜 | 第40页 |
| ·卢瑟福背散射 | 第40页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第40-41页 |
| ·稀磁氧化物的局域结构分析 | 第41-44页 |
| ·X 射线吸收精细结构实验谱 | 第41-42页 |
| ·X 射线吸收精细结构多重散射第一性原理计算 | 第42-44页 |
| ·稀磁氧化物的磁性测量 | 第44-47页 |
| ·振动样品磁强计 | 第44-46页 |
| ·超导量子磁强计 | 第46页 |
| ·原子磁矩的测量 | 第46-47页 |
| ·稀磁氧化物的电学性能 | 第47页 |
| ·稀磁氧化物的光学性能 | 第47-48页 |
| 第3章 工艺参数对Co 掺杂ZnO 局域结构与磁性的影响 | 第48-107页 |
| ·掺杂浓度对Co 掺杂ZnO 薄膜磁有序的影响 | 第48-72页 |
| ·样品设计与制备 | 第49页 |
| ·Co:ZnO/LiNbO_3 稀磁绝缘体的巨磁矩和高居里温度 | 第49-66页 |
| ·Co:ZnO/Si02 稀磁绝缘体的结构与性能 | 第66-72页 |
| ·基片对Co 掺杂ZnO 薄膜局域结构与磁性的影响 | 第72-83页 |
| ·样品设计与制备 | 第73页 |
| ·基片对Co 掺杂ZnO 薄膜磁性的影响 | 第73-75页 |
| ·不同基片上Co 掺杂ZnO 薄膜的结构 | 第75-79页 |
| ·Co 掺杂ZnO 薄膜与LiNbO_3 铁电基片之间的逆磁电耦合 | 第79-81页 |
| ·Co-O 键长对磁性的影响 | 第81-83页 |
| ·氧分压对Co 掺杂ZnO 单晶薄膜结构与性能的影响 | 第83-93页 |
| ·样品设计与制备 | 第83页 |
| ·Co 掺杂ZnO 单晶薄膜的微结构 | 第83-86页 |
| ·Co 掺杂ZnO 单晶薄膜的局域结构 | 第86-88页 |
| ·Co 掺杂ZnO 单晶薄膜磁学和电学性能的转变 | 第88-92页 |
| ·从稀磁绝缘体到半导体的光学红移 | 第92-93页 |
| ·沉积速率和基片温度对Co 掺杂ZnO 薄膜磁性的影响 | 第93-102页 |
| ·样品设计与制备 | 第94页 |
| ·Co 掺杂ZnO 薄膜的微结构与局域结构 | 第94-97页 |
| ·Co 掺杂ZnO 薄膜的性能 | 第97-102页 |
| ·稀磁氧化物的磁性起源探讨 | 第102-105页 |
| ·本章小结 | 第105-107页 |
| 第4章 Co 掺杂ZnO 基隧道结及其隧道磁电阻 | 第107-123页 |
| ·全外延的(Zn,Co)O/ZnO/(Zn,Co)O 隧道结 | 第108-116页 |
| ·隧道结的设计与制备 | 第108-109页 |
| ·隧道结的微结构分析 | 第109-112页 |
| ·隧道结的磁场相关隧道磁电阻 | 第112-114页 |
| ·隧道结的偏压相关隧道磁电阻 | 第114-116页 |
| ·双隧穿层隧道结的反常偏压相关磁电阻 | 第116-122页 |
| ·隧道结的设计与制备 | 第117页 |
| ·隧道结的反常偏压相关磁电阻 | 第117-120页 |
| ·隧道结的磁场相关磁电阻 | 第120-122页 |
| ·本章小结 | 第122-123页 |
| 第5章 Co 掺杂LiNbO_3的局域结构与磁性 | 第123-144页 |
| ·离子注入的Co 掺杂LiNbO_3 的局域结构与磁性 | 第123-128页 |
| ·离子注入样品的制备 | 第123-124页 |
| ·Co 注入LiNbO_3 的结构分析 | 第124-126页 |
| ·Co 注入LiNbO_3 的室温铁磁性与居里温度 | 第126-128页 |
| ·Co 掺杂LiNbO_3 单晶薄膜的结构与磁性 | 第128-133页 |
| ·Co 掺杂LiNbO_3 单晶薄膜样品的制备 | 第128-129页 |
| ·Co 掺杂LiNbO_3 单晶薄膜的结构 | 第129-132页 |
| ·Co 掺杂LiNbO_3 单晶薄膜的磁性 | 第132-133页 |
| ·Co 掺杂LiNbO_3 薄膜的室温铁磁和铁电性 | 第133-142页 |
| ·Co 掺杂LiNbO_3 薄膜的制备与测量 | 第133-134页 |
| ·Co 掺杂LiNbO_3 薄膜的结构 | 第134-138页 |
| ·Co 掺杂LiNbO_3 薄膜的室温铁磁性 | 第138-139页 |
| ·Co 掺杂LiNbO_3 薄膜的室温铁电性 | 第139-142页 |
| ·本章小结 | 第142-144页 |
| 结论 | 第144-146页 |
| 参考文献 | 第146-163页 |
| 致谢 | 第163-164页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第164-166页 |
