| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-14页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·WO_3 的概述 | 第9-10页 |
| ·掺杂WO_3 基材料的研究进展 | 第10-13页 |
| ·掺杂对WO_3 材料电致变色的影响 | 第10-11页 |
| ·掺杂对WO_3 材料气敏特性的影响 | 第11-12页 |
| ·掺杂对WO_3 材料催化性的影响 | 第12-13页 |
| ·本文的立题依据、研究内容和目的 | 第13-14页 |
| ·立题依据 | 第13页 |
| ·研究内容 | 第13-14页 |
| 2 薄膜的制备 | 第14-25页 |
| ·薄膜制备方法 | 第14-15页 |
| ·WO_3 基材料常用的制备方法 | 第15-17页 |
| ·沉淀法 | 第15页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第15页 |
| ·微乳液法 | 第15-16页 |
| ·溅射镀膜法 | 第16-17页 |
| ·Ti 掺杂WO_3 薄膜的制备 | 第17-23页 |
| ·试验设备 | 第17-18页 |
| ·反应磁控溅射法的类型 | 第18-20页 |
| ·磁控溅射法的优点 | 第20-21页 |
| ·试验用品 | 第21页 |
| ·试验流程 | 第21-23页 |
| ·小结 | 第23-25页 |
| 3 Ti 掺杂WO_3薄膜的表征 | 第25-31页 |
| ·薄膜膜厚的测定 | 第25页 |
| ·透射率的测定 | 第25-26页 |
| ·XRD 的测定 | 第26-29页 |
| ·霍尔测试 | 第29-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 4 Ti 掺杂 WO_3 薄膜的结构和性质分析 | 第31-39页 |
| ·Ti 的不同溅射功率对Ti 掺杂WO_3 薄膜的性能的影响 | 第31-34页 |
| ·Ti 的不同溅射功率对薄膜的微结构的影响 | 第31-33页 |
| ·Ti 的不同溅射功率对薄膜的透光率的影响 | 第33-34页 |
| ·退火温度对薄膜性能的影响 | 第34-38页 |
| ·退火温度对薄膜的微结构影响 | 第34-36页 |
| ·退火温度对薄膜的透射率影响 | 第36-37页 |
| ·退火温度对薄膜电学性质的影响 | 第37-38页 |
| ·小结 | 第38-39页 |
| 5 Ti 掺杂 WO_3 薄膜的气敏性能测试与分析 | 第39-52页 |
| ·测试系统的建立 | 第40-41页 |
| ·测试系统的要求 | 第40页 |
| ·测试系统的气路设计 | 第40页 |
| ·测试装置的具体结构 | 第40-41页 |
| ·气敏元件的相关参数 | 第41-42页 |
| ·样品的气敏测试流程 | 第42页 |
| ·Ti 掺杂WO_3 薄膜对酒精的气敏特性 | 第42-45页 |
| ·Ti 掺杂WO_3 薄膜对酒精的气敏特性 | 第43-45页 |
| ·样品2-2 在酒精中响应-恢复曲线 | 第45页 |
| ·Ti 掺杂WO_3 薄膜对NO_2 的气敏特性 | 第45-48页 |
| ·Ti 掺杂WO_3 薄膜对NO_2 的气敏特性 | 第45-47页 |
| ·样品3-1 对NO_2 气体的响应-恢复曲线 | 第47-48页 |
| ·样品2-2 对酒精、NO_2 气体的敏感性比较 | 第48-50页 |
| ·气敏机理分析 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 6 结论与展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 附：1. 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第58-59页 |
| 2. 致谢 | 第59页 |