摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第1章 绪论 | 第11-25页 |
·课题背景 | 第11-12页 |
·聚酰亚胺简介 | 第12-16页 |
·聚酰亚胺的合成方法 | 第13-14页 |
·聚酰亚胺的性能 | 第14页 |
·聚酰亚胺的应用 | 第14-15页 |
·聚酰亚胺的改性 | 第15-16页 |
·聚酰亚胺/无机氧化物复合薄膜的国内外研究进展 | 第16-23页 |
·聚酰亚胺/SiO_2 复合薄膜的国内外研究进展 | 第17-18页 |
·聚酰亚胺/Al_2O_3 复合薄膜的国内外研究进展 | 第18-20页 |
·硅烷偶联剂掺杂聚酰亚胺的国内外研究进展 | 第20-22页 |
·对聚酰亚胺的介电机理方面的研究 | 第22-23页 |
·本论文研究目的及内容 | 第23-25页 |
第2章 理论分析 | 第25-32页 |
·溶胶-凝胶法 | 第25-26页 |
·介电性能理论 | 第26-28页 |
·击穿理论 | 第26-27页 |
·耐电晕性能理论 | 第27-28页 |
·介电谱理论 | 第28页 |
·偶联剂的作用机理 | 第28-31页 |
·偶联剂的结构 | 第28-29页 |
·偶联剂的分类 | 第29页 |
·硅烷偶联剂 | 第29-31页 |
·本章小结 | 第31-32页 |
第3章 PI/SiO_2-Al_2O_3纳米复合薄膜的制备 | 第32-43页 |
·偶联剂的改性 | 第32-35页 |
·实验的主要原料及原料处理 | 第35页 |
·实验的主要原料 | 第35页 |
·原料预处理 | 第35页 |
·实验用主要仪器设备 | 第35-36页 |
·实验方法 | 第36-40页 |
·PI/SiO_2 复合薄膜的制备 | 第36-38页 |
·PI/Al_2O_3-SiO_2 复合薄膜的制备 | 第38-40页 |
·表征方法 | 第40-42页 |
·红外光谱分析 | 第40页 |
·扫描电镜分析 | 第40页 |
·击穿场强测试 | 第40-41页 |
·耐电晕性能测试 | 第41页 |
·介电谱测试 | 第41-42页 |
·热失重分析 | 第42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第4章 PI/SiO_2-Al_2O_3纳米复合薄膜的性能 | 第43-62页 |
·FTIR 分析 | 第43-45页 |
·形貌结构 | 第45-47页 |
·电性能 | 第47-56页 |
·击穿场强 | 第47-49页 |
·耐电晕性能 | 第49-53页 |
·介电谱 | 第53-56页 |
·热稳定性 | 第56-60页 |
·本章小结 | 第60-62页 |
结论 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-69页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第69-70页 |
致谢 | 第70页 |