| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-23页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·太阳能电池的研究发展 | 第8-11页 |
| ·纳米TiO_2 | 第11-19页 |
| ·TiO_2 晶型 | 第11-12页 |
| ·纳米材料（量子点）特性 | 第12-15页 |
| ·纳米TiO_2 薄膜制备 | 第15-17页 |
| ·TiO_2 的掺杂与改性 | 第17-19页 |
| ·量子点自组装生长原理 | 第19页 |
| ·离子束溅射沉积技术 | 第19-20页 |
| ·离子注入技术 | 第20-21页 |
| ·课题内容及创新点 | 第21-23页 |
| ·课题研究内容 | 第21-22页 |
| ·课题创新点 | 第22-23页 |
| 第二章 离子束溅射制备Ge量子点掺杂TiO_2薄膜及其表征 | 第23-46页 |
| ·引言 | 第23-24页 |
| ·离子束溅射 | 第24-25页 |
| ·离子束溅射原理 | 第25页 |
| ·仪器设备 | 第25页 |
| ·实验方法 | 第25-28页 |
| ·实验材料 | 第25-26页 |
| ·薄膜的制备 | 第26-27页 |
| ·后续热处理 | 第27-28页 |
| ·分析测试方法 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-45页 |
| ·扫描电镜分析 | 第29-30页 |
| ·微观形貌（TEM）分析 | 第30-34页 |
| ·小角掠入射X射线衍射（GXRD）分析 | 第34-35页 |
| ·X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第35-36页 |
| ·原子力显微镜（AFM）分析 | 第36-38页 |
| ·薄膜的紫外可见（UV-vis）吸收分析 | 第38-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第三章 Si量子点掺杂TiO_2薄膜及其表征 | 第46-57页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·离子束溅射制备Si单量子点掺杂TiO_2 薄膜 | 第46-47页 |
| ·离子注入制备Si单量子点掺杂TiO_2 薄膜 | 第47-50页 |
| ·离子注入原理 | 第48页 |
| ·工艺参数 | 第48-49页 |
| ·离子注入设备 | 第49页 |
| ·注入参数 | 第49-50页 |
| ·分析测试方法 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-56页 |
| ·透射电镜微观形貌(TEM)分析 | 第51-53页 |
| ·薄膜的紫外可见（UV-vis）吸收分析 | 第53-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 Ge、Si双量子点掺杂TiO_2薄膜及其表征 | 第57-65页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·Ge、Si双量子点掺杂的TiO_2 复合薄膜的制备 | 第57-58页 |
| ·分析测试方法 | 第58-59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-64页 |
| ·微观形貌（TEM）分析 | 第59-60页 |
| ·X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第60-63页 |
| ·薄膜的紫外可见（UV-vis）吸收分析 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第五章 全文总结 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
