磁控溅射系统中磁场分布及膜厚均匀性研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-21页 |
| ·表面工程技术 | 第7页 |
| ·磁控溅射技术基础理论及原理 | 第7-12页 |
| ·溅射技术基础 | 第7-9页 |
| ·直流辉光放电 | 第9-10页 |
| ·带电粒子和磁场作用 | 第10-11页 |
| ·磁控溅射原理 | 第11-12页 |
| ·磁控溅射技术的发展 | 第12-14页 |
| ·磁控溅射面临问题和研究现状 | 第14-18页 |
| ·磁控管设计现状 | 第14-16页 |
| ·膜厚均匀性研究现状 | 第16-18页 |
| ·课题研究目的、意义和内容 | 第18-21页 |
| ·课题研究目的 | 第18页 |
| ·论文各部分主要内容 | 第18-21页 |
| 2 实验设备和实验手段 | 第21-25页 |
| ·磁场模拟软件和测量仪器 | 第21页 |
| ·磁控溅射设备介绍 | 第21-22页 |
| ·薄膜组织结构分析 | 第22页 |
| ·薄膜扫描电子显微镜观察 | 第22页 |
| ·薄膜X射线衍射 | 第22页 |
| ·薄膜厚度测定 | 第22-25页 |
| 3 矩形平面磁控管磁场模拟 | 第25-37页 |
| ·物理模型 | 第25-26页 |
| ·磁控管结构 | 第25-26页 |
| ·磁场计算物理模型 | 第26页 |
| ·用Ansys软件进行磁场计算 | 第26-27页 |
| ·计算结果分析 | 第27-32页 |
| ·磁轭材料对靶表面磁场的影响 | 第27-29页 |
| ·铁氧体磁体对靶表面磁场的影响 | 第29-30页 |
| ·钕铁硼磁体对靶表面磁场的影响 | 第30-31页 |
| ·导磁片对靶表面磁场的影响 | 第31-32页 |
| ·磁控管模拟小结 | 第32页 |
| ·自制磁控管的模拟和测量 | 第32-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 4 磁场对磁控管放电特性及沉积Cr薄膜过程的影响 | 第37-51页 |
| ·磁控管放电特性分析 | 第37-40页 |
| ·Cr薄膜制备及分析 | 第40-48页 |
| ·Cr薄膜制备工艺 | 第40-41页 |
| ·实验材料及放置 | 第41页 |
| ·磁场对靶电流、基片偏流及薄膜厚度的影响 | 第41-42页 |
| ·磁场对薄膜表面和截面形貌影响 | 第42-46页 |
| ·磁场对薄膜组织结构影响 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-51页 |
| 5 膜厚均匀性模型 | 第51-63页 |
| ·薄膜沉积物理模型 | 第51-52页 |
| ·薄膜沉积数学模型 | 第52-53页 |
| ·靶材溅射区域 | 第53-54页 |
| ·膜厚分布和均匀性计算分析 | 第54-58页 |
| ·径向位置膜层厚度和均匀性 | 第54-55页 |
| ·横向位置膜层厚度和均匀性 | 第55-57页 |
| ·轴向位置膜层厚度和均匀性 | 第57-58页 |
| ·实验验证 | 第58-60页 |
| ·讨论与小结 | 第60-63页 |
| ·模型的缺点分析和展望 | 第60-61页 |
| ·小结 | 第61-63页 |
| 6 结论 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第71页 |
