| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-19页 |
| ·光折变效应 | 第10-13页 |
| ·光折变效应简介 | 第10页 |
| ·光折变效应产生的物理机制 | 第10-12页 |
| ·光折变效应的主要特征 | 第12-13页 |
| ·光子晶体 | 第13-15页 |
| ·光子晶体的概念 | 第13-15页 |
| ·光子晶体的制备方法 | 第15-17页 |
| ·机械精密加工 | 第15页 |
| ·刻蚀技术 | 第15-16页 |
| ·反蛋白石法 | 第16页 |
| ·胶体光子晶体 | 第16-17页 |
| ·光诱导法 | 第17页 |
| ·本论文的研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 成像法制作光折变微结构 | 第19-28页 |
| ·成像法在 LiNbO_3:Fe 晶体中制作缺陷态光子晶格 | 第19-25页 |
| ·实验装置 | 第19-20页 |
| ·在薄晶体中制作(2+1)维缺陷光子晶格 | 第20-21页 |
| ·在厚晶体中制作(2+1)维缺陷光子晶格 | 第21-22页 |
| ·对掩膜法造成薄、厚晶体中波导异同的分析 | 第22-25页 |
| ·利用成像法制作集成光路谐振微腔 | 第25-27页 |
| ·光子晶体集成光路的制作设想 | 第25-26页 |
| ·利用成像法制作光折变微腔激光器 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 缺陷光子晶格局限光现象的研究 | 第28-34页 |
| ·缺陷光子晶格局域光现象的实验观察 | 第28-31页 |
| ·实验光路 | 第28-29页 |
| ·缺陷光子晶格的构造及其局域光现象的观察 | 第29-31页 |
| ·晶格局域光现象的初步解释 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 三角晶格中的空间二次谐波现象 | 第34-44页 |
| ·实验装置与实验现象 | 第34-36页 |
| ·实验装置 | 第34-35页 |
| ·实验现象 | 第35-36页 |
| ·理论分析与数值模拟 | 第36-43页 |
| ·空间二次谐波现象的理论解释 | 第36-40页 |
| ·三角晶格空间二次谐波现象的数值模拟 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 结束语 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |