| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-26页 |
| ·巨磁阻效应的发现及应用 | 第9-11页 |
| ·巨磁阻效应的发现 | 第9-10页 |
| ·巨磁阻效应的应用 | 第10-11页 |
| ·钙钛矿锰氧化物外延薄膜中磁阻效应的发现及重要意义 | 第11-13页 |
| ·钙钛矿锰氧化物薄膜中磁阻效应的发现 | 第11-12页 |
| ·钙钛矿锰氧化物薄膜中磁阻效应的重要意义 | 第12-13页 |
| ·金属、半导体和薄膜中产生磁阻效应的定性解释 | 第13-15页 |
| ·金属、半导体中磁阻效应的解释 | 第13-14页 |
| ·双层膜中产生磁阻效应的物理机制 | 第14-15页 |
| ·钙钛矿锰氧化物的晶体结构 | 第15-17页 |
| ·钙钛矿锰氧化物的电磁性质 | 第17-23页 |
| ·钙钛矿锰氧化物A_(1-x)B_xMnO_3的电学性质 | 第17-18页 |
| ·钙钛矿锰氧化物的磁结构与输运性质 | 第18-23页 |
| ·p-n异质结及其进展 | 第23-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第二章 锰氧化物陶瓷及其薄膜的制备、表征与测试 | 第26-42页 |
| ·La_(1-x)Sr_xMnO_3薄膜的制备 | 第26-30页 |
| ·La_(1-x)Sr_xMnO_3靶材的制备 | 第26-27页 |
| ·脉冲激光沉积系统介绍 | 第27-28页 |
| ·脉冲激光沉积镀膜的步骤 | 第28-29页 |
| ·真空蒸镀、磁控溅射等制备薄膜技术介绍 | 第29-30页 |
| ·样品的结构表征 | 第30-40页 |
| ·X-射线衍射工作原理 | 第30-33页 |
| ·X-射线衍射方法 | 第33-34页 |
| ·薄膜的结构表征 | 第34-36页 |
| ·倒易空间图 | 第36-38页 |
| ·扫描隧道显微镜 | 第38-39页 |
| ·原子力显微镜 | 第39-40页 |
| ·样品的测试 | 第40-41页 |
| ·薄膜电阻率的测量 | 第40-41页 |
| ·实验所用仪器 | 第41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 La_(0.8)Sr_(0.2)MnO_3外延薄膜的结构与物性研究 | 第42-56页 |
| ·掺杂含量、离子半径对La_(1-x)Sr_xMnO_3靶材微结构的影响 | 第42-44页 |
| ·掺杂含量对La_(1-x)Sr_xMnO_3靶材微结构的影响 | 第42-43页 |
| ·离子半径对钙钛矿锰氧化物微结构的影响 | 第43-44页 |
| ·晶格失配对外延膜的生长及微结构的影响 | 第44-46页 |
| ·厚度对La_(0.8)Sr_(0.2)MnO_3外延膜生长及微结构影响 | 第46-48页 |
| ·厚度对外延薄膜La_(0.8)Sr_(0.2)MnO_3输运性的影响 | 第48-50页 |
| ·厚度依赖的La_(0.8)Sr_(0.2)MnO_3外延薄膜的磁性 | 第50-55页 |
| ·外磁场方向对La_(0.8)Sr_(0.2)MnO_3薄膜磁化的影响 | 第50-52页 |
| ·厚度对La_(0.8)Sr_(0.2)MnO_3薄膜磁化的影响 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 La_(0.8)Sr_(0.2)MnO_3/NSTO薄膜异质结的制备与表征 | 第56-60页 |
| ·锰氧化物薄膜异质结的历史及应用 | 第56-57页 |
| ·La_(0.8)Sr_(0.2)MnO_3/NSTO薄膜异质结的制备 | 第57页 |
| ·厚度依赖的La_(0.8)Sr_(0.2)MnO_3/NSTO异质结的整流特性 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读硕士研究生学位期间发表的论文 | 第66-67页 |
