| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-26页 |
| §1.1 引言 | 第10-13页 |
| §1.2 国内外相关研究工作 | 第13-20页 |
| §1.2.1 国外相关研究工作 | 第13-17页 |
| §1.2.2 国内相关研究工作 | 第17-20页 |
| §1.3 本文选题依据及主要研究工作 | 第20-22页 |
| §1.4 小结 | 第22页 |
| 参考文献 | 第22-26页 |
| 第二章 样品制备及结构性能表征原理 | 第26-44页 |
| §2.1 磁控溅射镀膜及其原理 | 第26-28页 |
| §2.2 薄膜微结构的表征 | 第28-34页 |
| §2.2.1 X射线衍射(XRD)原理 | 第28-30页 |
| §2.2.2 扫描电子显微镜(SEM)原理 | 第30-31页 |
| §2.2.3 透射电子显微镜(TEM)原理 | 第31-33页 |
| §2.2.4 原子力显微镜(AFM)原理 | 第33-34页 |
| §2.3 薄膜组分及化学状态的表征 | 第34-36页 |
| §2.3.1 X射线光电子能谱(XPS)测试原理 | 第34-35页 |
| §2.3.2 能量散射X射线光谱(EDS)测试原理 | 第35-36页 |
| §2.4 薄膜厚度的表征 | 第36-37页 |
| §2.4.1 表面轮廓仪测量膜厚 | 第36-37页 |
| §2.4.2 椭偏解谱软件FilmWizard拟合透射光谱确定膜厚 | 第37页 |
| §2.5 薄膜光学性能的表征 | 第37-39页 |
| §2.5.1 透射光谱 | 第37-38页 |
| §2.5.2 反射光谱 | 第38-39页 |
| §2.5.3 吸收光谱 | 第39页 |
| §2.6 薄膜电学性能的表征 | 第39-41页 |
| §2.6.1 面电阻的定义 | 第39-40页 |
| §2.6.2 面电阻的测量及四探针法原理 | 第40-41页 |
| §2.7 薄膜效能因子和分光比 | 第41页 |
| §2.8 小结 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 第三章 Ag-ITO纳米颗粒复合薄膜的制备、微结构及其特性表征 | 第44-82页 |
| §3.1 薄膜制备 | 第44-45页 |
| §3.1.1 基片的清洗 | 第44页 |
| §3.1.2 ITO薄膜的制备 | 第44-45页 |
| §3.1.3 Ag-ITO薄膜的制备 | 第45页 |
| §3.2 薄膜微结构分析 | 第45-57页 |
| §3.2.1 X射线衍射(XRD)表征 | 第45-50页 |
| §3.2.2 扫描电子显微镜(SEM)表征 | 第50-51页 |
| §3.2.3 透射电子显微镜(TEM)表征 | 第51-54页 |
| §3.2.4 原子力显微镜(AFM)表征 | 第54-57页 |
| §3.3 薄膜组分及化学状态的表征 | 第57-63页 |
| §3.4 膜厚测量 | 第63-66页 |
| §3.4.1 表面轮廓仪测量膜厚 | 第63-65页 |
| §3.4.2 椭偏解谱软件FilmWizard拟合透射光谱确定膜厚 | 第65-66页 |
| §3.5 光学特性 | 第66-76页 |
| §3.5.1 透射光谱分析 | 第66-69页 |
| §3.5.2 反射光谱分析 | 第69-71页 |
| §3.5.3 吸收光谱分析 | 第71-74页 |
| §3.5.4 光学常数分析 | 第74-76页 |
| §3.6 薄膜电学特性 | 第76-78页 |
| §3.7 效能因子和分光比 | 第78-79页 |
| §3.8 小结 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-82页 |
| 第四章 结论与后续工作展望 | 第82-85页 |
| 附图注及表注 | 第85-89页 |
| 致谢 | 第89-90页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第90页 |
