| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-12页 |
| 引言 | 第12-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-40页 |
| ·NiO薄膜及其电阻开关特性 | 第14-18页 |
| ·NiO的晶体结构和基本特性 | 第14-15页 |
| ·NiO的电阻开关效应 | 第15-18页 |
| ·TiO_2的基本结构和半导体光催化技术 | 第18-23页 |
| ·TiO_2的晶体结构和基本特性 | 第18-19页 |
| ·TiO_2的光催化反应机制 | 第19-23页 |
| ·ZnO的基本结构与物性 | 第23-26页 |
| ·磁控溅射的基本原理及实验用磁控溅射镀膜系统介绍 | 第26-40页 |
| ·溅射镀膜的发展及其特点 | 第26-27页 |
| ·溅射的基本原理 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射镀膜方法 | 第29-33页 |
| ·实验用磁控溅射镀膜装置介绍 | 第33-40页 |
| 第二章 NiO薄膜的制备与特性研究 | 第40-72页 |
| ·不同氧分压对NiO薄膜特性的影响 | 第40-62页 |
| ·NiO薄膜的制备 | 第40-41页 |
| ·氧分压对NiO薄膜晶体结构的影响 | 第41-43页 |
| ·氧分压对NiO薄膜表面形貌的影响 | 第43-44页 |
| ·利用椭偏仪研究NiO薄膜的光学特性 | 第44-61页 |
| ·氧分压对NiO薄膜电学特性的影响 | 第61-62页 |
| ·沉积温度对NiO薄膜的结晶影响 | 第62-64页 |
| ·NiO薄膜电阻开关特性的初步测量 | 第64-71页 |
| ·电阻开关效应机理模型 | 第64-66页 |
| ·不同氧分压下制备的NiO薄膜的电阻开关效应 | 第66-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第三章 单层Ni和NiO纳米颗粒的可控生长及其特性研究 | 第72-90页 |
| ·单层Ni纳米颗粒的可控生长 | 第73-80页 |
| ·不同厚度NiO薄膜的制备 | 第74-75页 |
| ·不同退火温度对单层Ni纳米颗粒形貌的影响 | 第75-78页 |
| ·纳米颗粒的尺寸分布 | 第78-80页 |
| ·Ni纳米颗粒的物相分析 | 第80-82页 |
| ·Ni纳米颗粒的TEM图像 | 第82-83页 |
| ·Ni纳米颗粒的超顺磁特性 | 第83-86页 |
| ·NiO纳米颗粒的制备 | 第86-89页 |
| ·本章小结 | 第89-90页 |
| 第四章 TiO_2薄膜的制备与特性研究 | 第90-102页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第90-92页 |
| ·退火对TiO_2薄膜物性的影响 | 第92-98页 |
| ·退火对TiO_2薄膜晶体结构的影响 | 第92-93页 |
| ·退火对TiO_2薄膜光学特性的影响 | 第93-95页 |
| ·退火对TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第95-98页 |
| ·原位TEM观察退火对TiO_2薄膜的影响 | 第98-100页 |
| ·TiO_2薄膜光催化特性的初步测试 | 第100-101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 第五章 ZnO薄膜和Ni掺杂ZnO薄膜磁阻特性 | 第102-108页 |
| ·ZnO薄膜的制备及其表面形貌 | 第102-104页 |
| ·Ni掺杂ZnO薄膜的磁阻效应 | 第104-107页 |
| ·本章小结 | 第107-108页 |
| 第六章 全文总结 | 第108-111页 |
| ·本文的主要研究结果 | 第108-110页 |
| ·展望 | 第110-111页 |
| 参考文献 | 第111-127页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第127-129页 |
| 致谢 | 第129页 |