| 提要 | 第1-9页 |
| 第一部分 共掺杂p 型ZnO 薄膜的制备和性能 | 第9-118页 |
| 第一章 引言 | 第10-36页 |
| ·ZnO 材料的基本性质及应用 | 第11-13页 |
| ·氧化锌材料的研究热点及其进展 | 第13-26页 |
| ·ZnO 的p 型掺杂的研究进展 | 第14-22页 |
| ·ZnO 紫外发光器件的研究进展 | 第22-26页 |
| ·当前ZnO 材料研究中存在的主要问题 | 第26-27页 |
| ·论文的选题依据和研究内容 | 第27-29页 |
| 参考文献 | 第29-36页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备技术和表征手段 | 第36-51页 |
| ·ZnO 薄膜的生长设备 | 第36-39页 |
| ·磁控溅射技术 | 第36-38页 |
| ·真空退火设备简介 | 第38-39页 |
| ·ZnO 薄膜的表征手段 | 第39-50页 |
| ·X 射线衍射谱 | 第39-40页 |
| ·X 射线光电子能谱 | 第40-41页 |
| ·微区光致发光谱 | 第41-42页 |
| ·吸收光谱 | 第42-44页 |
| ·霍尔效应测量 | 第44-45页 |
| ·拉曼光谱 | 第45-47页 |
| ·二次离子质谱仪 | 第47-48页 |
| ·X 射线散射能谱 | 第48页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第三章 N_2/O_2溅射气氛下B-N共掺p型ZnO薄膜的制备与性能研究 | 第51-71页 |
| ·N_2/O_2 溅射气氛下B-N 共掺p 型ZnO 薄膜的制备 | 第52-53页 |
| ·靶材的制备 | 第52页 |
| ·薄膜制备 | 第52-53页 |
| ·N_2/O_2 溅射气氛下B-N 共掺p 型ZnO 薄膜的性能研究 | 第53-59页 |
| ·N_2/O_2 溅射气氛下B-N 共掺ZnO 薄膜的组分表征 | 第53-54页 |
| ·N_2/O_2 溅射气氛下B-N 共掺ZnO 薄膜的结构表征 | 第54-55页 |
| ·N_2/O_2溅射气氛下B-N 共掺ZnO 薄膜的电学性质分析 | 第55-57页 |
| ·N_2/O_2溅射气氛下B-N 共掺ZnO 薄膜的光学性质分析 | 第57-59页 |
| ·退火温度对N_22/O_2溅射气氛下制备的 B-N 共掺 ZnO 薄膜性能的影响 | 第59-66页 |
| ·薄膜制备 | 第59页 |
| ·退火温度对N_2/O_2 溅射气氛下制备的 B-N 共掺 ZnO 薄膜电学性质的影响 | 第59-60页 |
| ·退火温度对N_2/O_2 溅射气氛下制备的 B-N 共掺 ZnO 薄膜结构的影响 | 第60-62页 |
| ·退火温度对N_2/O_2 溅射气氛下制备的 B-N 共掺 ZnO 光学性质的影响 | 第62-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 第四章 Ar/O_2溅射气氛下B-N共掺p型ZnO薄膜的制备与性能研究 | 第71-90页 |
| ·Ar/O_2 溅射气氛下B-N 共掺p 型ZnO 薄膜的制备 | 第71页 |
| ·Ar/O_2 溅射气氛下B-N 共掺p 型ZnO 薄膜的性能研究 | 第71-80页 |
| ·氧流量比对B-N 共掺ZnO 薄膜电学性质的影响 | 第71-73页 |
| ·Ar/O_2溅射气氛下B-N 共掺ZnO 薄膜的电学性质分析 | 第73-74页 |
| ·Ar/O_2 溅射气氛下B-N 共掺ZnO 薄膜的结构表征 | 第74-76页 |
| ·Ar/O_2 溅射气氛下B-N 共掺ZnO 薄膜的组分表征 | 第76-77页 |
| ·Ar/O_2溅射气氛下B-N 共掺ZnO 薄膜的拉曼光谱分析 | 第77-79页 |
| ·Ar/O_2溅射气氛下B-N 共掺ZnO 薄膜的光学性质分析 | 第79-80页 |
| ·退火气氛对Ar/O_2溅射气氛下制备的 B-N 共掺 ZnO 薄膜性能的影响 | 第80-85页 |
| ·薄膜制备 | 第80页 |
| ·退火气氛对Ar/O_2 溅射气氛下制备的 B-N 共掺 ZnO 薄膜结构的影响 | 第80-82页 |
| ·退火气氛对Ar/O_2 溅射气氛下制备的 B-N 共掺 ZnO 薄膜电学性质的影响 | 第82页 |
| ·退火气氛对Ar/0 溅射气氛下制备的 B-N 共掺 ZnO 薄膜光学性质的影响 | 第82-85页 |
| ·Ar/O_2溅射气氛下制备的 B-N 共掺 p 型 ZnO 薄膜的理论模型与导电机制的分析 | 第85-86页 |
| ·本章小结 | 第86-87页 |
| 参考文献 | 第87-90页 |
| 第五章 P-N 共掺p 型ZnO 薄膜的制备与性能研究 | 第90-117页 |
| ·P-N 共掺p 型ZnO 薄膜的制备 | 第91-92页 |
| ·靶材的制备 | 第91页 |
| ·薄膜制备 | 第91-92页 |
| ·P-N 共掺杂ZnO 薄膜的结构表征 | 第92-94页 |
| ·P-N 共掺杂ZnO 薄膜的电学性质分析 | 第94-97页 |
| ·P-N 共掺杂ZnO 薄膜的形貌及成份表征 | 第97-104页 |
| ·P-N 共掺杂ZnO 薄膜的形貌表征 | 第97页 |
| ·P-N 共掺杂ZnO 薄膜的能谱散射分析 | 第97-98页 |
| ·P-N 共掺杂ZnO 薄膜的二次离子质谱分析 | 第98-100页 |
| ·P-N 共掺杂ZnO 薄膜的X 射线光电子能谱分析 | 第100-102页 |
| ·P-N 共掺杂ZnO 薄膜的拉曼光谱分析 | 第102-104页 |
| ·P-N 共掺杂ZnO 薄膜的光学性质分析 | 第104-109页 |
| ·P-N 共掺杂ZnO 薄膜的吸收光谱分析 | 第104-106页 |
| ·P-N 共掺杂ZnO 薄膜的光致发光谱的分析 | 第106-109页 |
| ·P-N 共掺杂p 型ZnO 薄膜形成机制的探讨 | 第109-111页 |
| ·本章小结 | 第111-112页 |
| 参考文献 | 第112-117页 |
| 第六章 结论 | 第117-118页 |
| 第二部分 富氮Zr-N 薄膜的制备、性能及表征 | 第118-146页 |
| 第一章 引言 | 第119-127页 |
| ·金属氮化物的发展状况 | 第119-123页 |
| ·过渡金属氮化物研究 | 第119-121页 |
| ·Th_3P_4和尖晶石结构金属氮化物新型超硬材料的研究 | 第121-123页 |
| ·本研究工作的设想与意义 | 第123-125页 |
| 参考文献 | 第125-127页 |
| 第二章 富氮Zr-N 薄膜的制备、性能及表征 | 第127-145页 |
| ·Th_3P_4 结构的富氮Zr-N 薄膜的制备、性能及表征 | 第127-134页 |
| ·实验方法 | 第127页 |
| ·实验结果与讨论 | 第127-134页 |
| ·N_2/（N_2+Ar）流量比对Zr-N 薄膜结构及性能的影响 | 第134-142页 |
| ·实验方法 | 第134页 |
| ·实验结果与讨论 | 第134-142页 |
| ·本章小结 | 第142-143页 |
| 参考文献 | 第143-145页 |
| 第三章 结论 | 第145-146页 |
| 攻读博士期间发表的学术论文 | 第146-148页 |
| 致谢 | 第148-149页 |
| 作者简历 | 第149-150页 |
| 摘要 | 第150-153页 |
| Abstract | 第153-156页 |
