| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 光纤激光器 | 第10-12页 |
| 1.1.1 光纤激光器介绍 | 第10-11页 |
| 1.1.2 光纤激光器的脉冲演化过程 | 第11-12页 |
| 1.2 基于可饱和吸收体的锁模激光器研究进展 | 第12-17页 |
| 1.2.1 基于半导体可饱和吸收镜的锁模激光器研究进展 | 第12-13页 |
| 1.2.2 基于碳纳米管的锁模激光器研究进展 | 第13页 |
| 1.2.3 基于石墨烯的锁模激光器研究进展 | 第13-14页 |
| 1.2.4 基于拓扑绝缘体的锁模激光器研究进展 | 第14-15页 |
| 1.2.5 基于过渡金属硫化物的锁模激光器研究进展 | 第15-16页 |
| 1.2.6 基于黑磷的锁模激光器研究进展 | 第16-17页 |
| 1.3 二维薄膜材料的制备方法 | 第17-20页 |
| 1.3.1 “自上而下”制备方法 | 第17-19页 |
| 1.3.2 “自下而上”制备方法 | 第19-20页 |
| 1.4 本论文的主要工作 | 第20-22页 |
| 第2章 二硒化钨可饱和吸收体的制备及表征 | 第22-32页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 二硒化钨薄膜的表征分析 | 第22-26页 |
| 2.2.1 二硒化钨薄膜的光学显微镜表征 | 第22-23页 |
| 2.2.2 二硒化钨薄膜的原子力显微镜表征 | 第23-24页 |
| 2.2.3 二硒化钨薄膜的透射式电子显微镜表征 | 第24-25页 |
| 2.2.4 二硒化钨薄膜的拉曼光谱表征 | 第25-26页 |
| 2.3 微纳光纤二硒化钨可饱和吸收体 | 第26-28页 |
| 2.4 二硒化钨的线性光学特性 | 第28-29页 |
| 2.5 二硒化钨的可饱和吸收特性 | 第29-30页 |
| 2.6 本章小结 | 第30-32页 |
| 第3章 二硒化钨可饱和吸收体在掺铒光纤激光器的研究 | 第32-38页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 实验装置 | 第32-33页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第33-37页 |
| 3.4 本章小结 | 第37-38页 |
| 第4章 二硒化钨可饱和吸收体在掺铥光纤激光器的研究 | 第38-42页 |
| 4.1 引言 | 第38页 |
| 4.2 实验装置 | 第38-39页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第39-41页 |
| 4.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第5章 总结和未来工作展望 | 第42-44页 |
| 5.1 本论文内容总结 | 第42-43页 |
| 5.2 未来工作展望 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第50页 |
