| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 VO_2智能窗应用意义 | 第10-11页 |
| 1.2 VO_2晶体结构和相变特性 | 第11-12页 |
| 1.3 研究背景 | 第12-13页 |
| 1.4 等离子体表面改性技术的应用 | 第13-15页 |
| 1.4.1 等离子体表面改性技术 | 第13-14页 |
| 1.4.2 VO_2薄膜后处理技术 | 第14-15页 |
| 1.5 论文的研究内容及创新点 | 第15-17页 |
| 第2章 VO_2薄膜制备、后处理及性能表征 | 第17-23页 |
| 2.1 VO_2薄膜制备方案 | 第17页 |
| 2.2 VO_2薄膜等离子体辐照后处理方案 | 第17-18页 |
| 2.3 VO_2薄膜表征方案 | 第18-23页 |
| 第3章 氩氧混合等离子体处理对VO_2薄膜光电特性影响 | 第23-41页 |
| 3.1 辐照功率对VO_2薄膜特性的影响 | 第23-31页 |
| 3.2 Ar/O_2混合等离子体辐照中氩氧比对VO_2薄膜光电特性影响 | 第31-39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 氧等离子体处理对VO_2薄膜光电特性影响 | 第41-57页 |
| 4.1 氧等离子体处理辐照时间对VO_2薄膜光电特性影响 | 第41-48页 |
| 4.2 氧等离子体处理氧流量对VO_2薄膜光电特性影响 | 第48-56页 |
| 4.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第5章 全文总结 | 第57-59页 |
| 第6章 展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 攻读硕士期间的研究成果 | 第66页 |
