原子层沉积制备光学薄膜的性能研究及其计算机仿真
| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-12页 |
| ·薄膜技术的应用和发展 | 第9-10页 |
| ·本文的主要内容和创新点 | 第10-11页 |
| 参考文献 | 第11-12页 |
| 第2章 原子层沉积技术概述 | 第12-22页 |
| ·前言 | 第12-13页 |
| ·ALD工艺过程及工艺特点 | 第13-15页 |
| ·自限制性 | 第13-14页 |
| ·ALD沉积前驱体 | 第14-15页 |
| ·ALD与传统光学薄膜制备方法比较 | 第15-17页 |
| ·ALD的应用 | 第17-20页 |
| ·微电子方面的应用 | 第17-18页 |
| ·光学方面的应用 | 第18-20页 |
| 参考文献 | 第20-22页 |
| 第3章 原子层沉积薄膜的计算机仿真 | 第22-37页 |
| ·薄膜生长理论及其主要模式 | 第22-24页 |
| ·薄膜的生长模式 | 第22-23页 |
| ·薄膜生长仿真的主要方法 | 第23-24页 |
| ·反应机理 | 第24-25页 |
| ·模型建立和实现 | 第25-29页 |
| ·事件模型 | 第25-27页 |
| ·仿真模型的实现 | 第27-29页 |
| ·仿真结果分析 | 第29-35页 |
| ·不同基片温度下的沉积过程 | 第31-32页 |
| ·不同真空度下的沉积过程 | 第32-33页 |
| ·不同处理工艺的沉积过程 | 第33-35页 |
| 参考文献 | 第35-37页 |
| 第4章 原子层沉积光学薄膜制备及结果分析 | 第37-63页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·Al_2O_3薄膜 | 第37-44页 |
| ·光学特性 | 第38-41页 |
| ·薄膜表面形貌 | 第41-43页 |
| ·薄膜微结构 | 第43-44页 |
| ·Ta_2O_5薄膜 | 第44-50页 |
| ·光学特性 | 第45-47页 |
| ·薄膜表面形貌 | 第47-48页 |
| ·薄膜微结构和电学特性 | 第48-50页 |
| ·TiO_2薄膜 | 第50-54页 |
| ·光学特性 | 第51-53页 |
| ·薄膜表面形貌和微结构 | 第53-54页 |
| ·ZrO_2薄膜 | 第54-60页 |
| ·光学特性 | 第55-57页 |
| ·薄膜的微结构 | 第57-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 第5章 总结与展望 | 第63-65页 |
| 附录 | 第65-76页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第76页 |
| 攻读学位期间申请/授权的发明专利 | 第76页 |
