摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第1章 绪论 | 第11-33页 |
1.1 石墨烯概述 | 第11-25页 |
1.1.1 引言 | 第11-13页 |
1.1.2 石墨烯的基本性能 | 第13-14页 |
1.1.3 石墨烯的制备方法 | 第14-18页 |
1.1.4 石墨烯的表征技术 | 第18-19页 |
1.1.5 石墨烯的应用前景 | 第19-25页 |
1.2 石墨插层解理制备石墨烯 | 第25-27页 |
1.2.1 石墨插层化合物概述 | 第25-26页 |
1.2.2 石墨插层解理制备石墨烯 | 第26-27页 |
1.3 表面增强拉曼光谱 | 第27-33页 |
1.3.1 拉曼散射简介 | 第27-28页 |
1.3.2 表面增强拉曼散射 | 第28-29页 |
1.3.3 SERS理论的发展 | 第29-31页 |
1.3.4 SERS的应用 | 第31-33页 |
第2章 高质量薄层石墨烯的大量制备 | 第33-48页 |
2.1 引言 | 第33-34页 |
2.2 层间催化解理制备石墨烯 | 第34-47页 |
2.2.1 制备FeCl_3-石墨插层化合物 | 第34-37页 |
2.2.2 高质量薄层石墨烯的制备 | 第37-47页 |
2.3 本章小结 | 第47-48页 |
第3章 薄层石墨烯的储锂应用 | 第48-55页 |
3.1 引言 | 第48-49页 |
3.2 实验方法 | 第49-50页 |
3.2.1 实验药品 | 第49页 |
3.2.2 实验方法 | 第49-50页 |
3.3 实验结果 | 第50-53页 |
3.3.1 层间催化解理石墨烯储锂性能 | 第50-53页 |
3.4 分析与结论 | 第53-54页 |
3.5 本章小结 | 第54-55页 |
第4章 以氧化石墨烯、还原氧化石墨烯、石墨烯为基底的有机分子拉曼性质的研究 | 第55-69页 |
4.1 引言 | 第55-56页 |
4.2 三聚茚类分子的制备 | 第56-60页 |
4.2.1 主要试剂 | 第56页 |
4.2.2 主要仪器 | 第56页 |
4.2.3 实验过程 | 第56-59页 |
4.2.4 结果讨论 | 第59-60页 |
4.3 有机小分子溶液的配制 | 第60页 |
4.3.1 主要试剂 | 第60页 |
4.3.2 主要仪器和设备 | 第60页 |
4.3.3 有机分子溶液的配制 | 第60页 |
4.4 石墨烯溶液的制备 | 第60-61页 |
4.5 三聚茚炔和一些有机溶剂分别与石墨烯复合后拉曼性质的测定 | 第61-62页 |
4.6 结果与讨论 | 第62-67页 |
4.7 本章小结 | 第67-69页 |
第5章 结论与展望 | 第69-70页 |
5.1 结论 | 第69页 |
5.2 进一步工作的方向 | 第69-70页 |
致谢 | 第70-72页 |
参考文献 | 第72-79页 |
附录 | 第79-82页 |
攻读学位期间发表的学术论文及参加科研情况 | 第82页 |
一、发表论文、出版专著 | 第82页 |
二、科研项目 | 第82页 |