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基于DMD光刻机的关键图像处理技术研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
符号对照表第11-12页
缩略语对照表第12-16页
第一章 绪论第16-26页
    1.1 研究背景第16-17页
    1.2 国内外研究现状第17-24页
        1.2.1 DMD光刻技术研究现状第17-21页
        1.2.2 关键图像处理技术研究第21-24页
    1.3 论文的研究内容与创新点第24页
    1.4 论文的内容安排第24-26页
第二章 步进投影曝光方案及图像拼接处理第26-40页
    2.1 曝光模式第26-28页
        2.1.1 扫描曝光模式第26-27页
        2.1.2 步进投影曝光第27-28页
    2.2 步进式投影曝光关键图像处理技术第28-30页
        2.2.1 图像切割第28页
        2.2.2 图像投影第28-29页
        2.2.3 图像拼接第29-30页
    2.3 步进投影模式拼接误差校正第30-35页
        2.3.1 灰度调制技术第30-32页
        2.3.2 无缝拼接技术第32-34页
        2.3.3 拼接错位校正技术第34-35页
    2.4 仿真实验与分析第35-38页
    2.5 本章小结第38-40页
第三章 投影镜头畸变的基本原理与模型第40-52页
    3.1 无掩模曝光机投影系统第40-41页
    3.2 理想镜头的线性模型第41-46页
    3.3 镜头畸变类型与原理第46-49页
        3.3.1 径向畸变第46-47页
        3.3.2 离心畸变第47-48页
        3.3.3 薄棱镜畸变第48页
        3.3.4 其他畸变因素第48-49页
    3.4 镜头的畸变模型第49-51页
        3.4.1 鱼眼镜片畸变模型第49-50页
        3.4.2 单参数除式模型第50页
        3.4.3 Brown模型第50-51页
    3.5 本章小结第51-52页
第四章 投影镜头的标定和畸变校正第52-68页
    4.1 投影系统模型第52-54页
    4.2 相机的标定第54-58页
        4.2.1 相机标定原理第54-56页
        4.2.2 相机畸变参数优化第56-57页
        4.2.3 投影平面的确定第57-58页
    4.3 非测量投影系统标定方法第58-63页
        4.3.1 边缘检测第58-60页
        4.3.2 直线映射不变性第60-61页
        4.3.3 畸变量第61-63页
        4.3.4 模拟退火算法第63页
    4.4 畸变校正流程第63-64页
    4.5 仿真实验结果与分析第64-67页
    4.6 本章小结第67-68页
第五章 实验结果与分析第68-76页
    5.1 原型机介绍第68-69页
    5.2 投影镜头的标定与畸变校正实验第69-74页
        5.2.1 标定实验系统第69-70页
        5.2.2 实验结果第70-73页
        5.2.3 误差分析第73-74页
    5.3 本章小结第74-76页
第六章 总结与展望第76-78页
    6.1 工作总结第76页
    6.2 未来展望第76-78页
参考文献第78-82页
致谢第82-84页
作者简介第84-85页

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