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基于全息光刻微结构提高OLED出光效率的研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第一章 绪论第8-16页
    1.1 论文研究背景和意义第8-9页
    1.2 有机发光二极管的发展第9-11页
    1.3 微结构提高OLED出光效率的研究第11-15页
        1.3.1 微结构提取衬底模式的光第12-13页
        1.3.2 微结构提取ITO/有机模式的光波导第13-14页
        1.3.3 微结构激发LSPs第14-15页
    1.4 论文的主要研究内容第15-16页
第二章 微结构提高出光效率的理论分析第16-22页
    2.1 OLED工作原理第16-19页
        2.1.1 电荷注入第16-17页
        2.1.2 载流子的输运第17页
        2.1.3 激子的产生第17页
        2.1.4 激子辐射复合发光第17-18页
        2.1.5 OLED器件的外量子效率第18-19页
    2.2 一维光栅提高出光效率的理论分析第19页
    2.3 二维光栅提高出光效率的理论分析第19-20页
    2.4 无序纳米图形提高出光效率的理论分析第20-21页
    2.5 本章小结第21-22页
第三章 一维光栅提高OLED出光效率第22-36页
    3.1 一维光栅的仿真第22-28页
        3.1.1 FDTD仿真理论基础第22-25页
        3.1.2 一维光栅仿真条件第25-26页
        3.1.3 不同周期的一维光栅仿真结果第26-27页
        3.1.4 不同深度的一维光栅仿真结果第27-28页
    3.2 全息光刻一维光栅的制备及表征第28-32页
        3.2.1 全息光刻的理论基础第28-29页
        3.2.2 一维光栅的制备第29-30页
        3.2.3 一维光栅的表征第30-32页
    3.3 一维光栅器件的制备第32页
    3.4 OLED器件测试及分析第32-35页
    3.5 本章小结第35-36页
第四章 二维光栅提高OLED的出光效率第36-48页
    4.1 二维光栅的仿真第36-40页
        4.1.1 不同周期的二维点阵仿真结果第36-37页
        4.1.2 不同刻蚀深度的二维点阵仿真结果第37-38页
        4.1.3 不同刻蚀深度的二维孔阵仿真结果第38-39页
        4.1.4 不同光栅形状的仿真结果第39-40页
    4.2 全息光刻二维光栅的制备第40-42页
    4.3 二维光栅的表征第42页
    4.4 二维光栅器件的制备第42页
    4.5 OLED器件测试及分析第42-47页
        4.5.1 点阵OLED器件的测试及分析第43-45页
        4.5.2 孔阵OLED器件的测试及分析第45-46页
        4.5.3 不同光栅形状OLED器件的测试及分析第46-47页
    4.6 本章小结第47-48页
第五章 无序纳米图形提高OLED出光效率第48-53页
    5.1 无序纳米图形的制备第48页
    5.2 无序纳米图形的表征第48-50页
    5.3 无序纳米图形OLED器件的制备第50页
    5.4 OLED器件测试及分析第50-52页
    5.5 本章小结第52-53页
第六章 总结第53-54页
致谢第54-55页
参考文献第55-59页
攻读硕士期间发表的论文第59页

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