| 中文摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-29页 |
| 1.1 前言 | 第9-10页 |
| 1.2 光纤激光器的工作机理 | 第10-12页 |
| 1.3 脉冲激光器的理论机制 | 第12-17页 |
| 1.3.1 调Q技术 | 第12-14页 |
| 1.3.2 锁模技术 | 第14-17页 |
| 1.4 二维纳米材料可饱和吸收器件的最新研究进展 | 第17-26页 |
| 1.4.1 二维原子晶体可饱和吸收器件 | 第19-23页 |
| 1.4.2 拓扑绝缘体可饱和吸收器件 | 第23-24页 |
| 1.4.3 基于二维钙钛矿纳米片的可饱和吸收器件 | 第24-26页 |
| 1.5 本课题的立题依据、意义及研究内容 | 第26-29页 |
| 1.5.1 选题依据和研究意义 | 第26-27页 |
| 1.5.2 论文结构安排 | 第27-29页 |
| 第二章 黑磷材料可饱和吸收体 | 第29-38页 |
| 2.1 黑磷材料的制备和表征 | 第30-32页 |
| 2.2 光沉积制备黑磷可饱和吸收体 | 第32-33页 |
| 2.3 饱和吸收 | 第33-34页 |
| 2.4 黑磷光纤激光器 | 第34-37页 |
| 2.4.1 光纤激光器实验装置 | 第34-35页 |
| 2.4.2 锁模脉冲产生 | 第35-37页 |
| 2.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第三章 二维CH_3NH_3PbI_3钙钛矿纳米片可饱和吸收体 | 第38-56页 |
| 3.1 二维CH_3NH_3PbI_3钙钛矿材料的制备和表征 | 第39-43页 |
| 3.2 光学特性探究 | 第43-50页 |
| 3.2.1 线性吸收光谱 | 第43-44页 |
| 3.2.2 饱和吸收 | 第44-50页 |
| 3.3 钙钛矿可饱和吸收体的制备 | 第50-51页 |
| 3.4 基于钙钛矿纳米片的光纤激光器 | 第51-55页 |
| 3.4.1 光纤激光器的结构 | 第51-52页 |
| 3.4.2 锁模脉冲的产生 | 第52-55页 |
| 3.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 CH_3NH_3SnI_3钙钛矿薄片可饱和吸收体 | 第56-67页 |
| 4.1 CH_3NH_3SnI_3钙钛矿材料的制备和表征 | 第56-59页 |
| 4.2 饱和吸收 | 第59-61页 |
| 4.3 基于钙钛矿薄片的光纤激光器 | 第61-65页 |
| 4.3.1 光纤激光器的结构 | 第61-62页 |
| 4.3.2 锁模脉冲的产生 | 第62-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-67页 |
| 第5章 结论和展望 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-79页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80-81页 |
