| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 文献综述 | 第11-27页 |
| ·构件催化剂 | 第11-14页 |
| ·构件催化剂的研究意义 | 第11-12页 |
| ·构件催化剂的发展 | 第12-13页 |
| ·沸石膜催化剂 | 第13-14页 |
| ·沸石分子筛膜 | 第14-23页 |
| ·沸石分子筛膜概述 | 第14页 |
| ·沸石分子筛膜的载体分类 | 第14-15页 |
| ·几种常用沸石分子筛膜的合成方法 | 第15-20页 |
| ·沸石分子筛膜的应用 | 第20-23页 |
| ·MFI型分子筛膜 | 第23-26页 |
| ·MFI型沸石分子筛膜合成研究 | 第23-24页 |
| ·MFI型沸石分子筛膜的生长机理 | 第24-25页 |
| ·MFI型沸石分子筛膜的表征方法 | 第25-26页 |
| ·本论文的研究思路 | 第26-27页 |
| 2 实验方法 | 第27-30页 |
| ·实验原料及仪器 | 第27-28页 |
| ·原料与试剂 | 第27页 |
| ·仪器与设备 | 第27-28页 |
| ·本论文采用的表征方法和测试手段 | 第28-29页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第28页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第28页 |
| ·X射线能谱(EDX) | 第28页 |
| ·沉积量的计算 | 第28页 |
| ·分子筛膜与不锈钢载体结合强度的测定 | 第28-29页 |
| ·不锈钢载体的预处理 | 第29-30页 |
| 3 原位水热法制备ZSM-5分子筛膜 | 第30-35页 |
| ·实验步骤 | 第30-31页 |
| ·以四丙基溴化铵(TPABr)为模板剂原位合成ZSM-5分子筛膜 | 第30页 |
| ·以四丙基氢氧化铵(TPAOH)为模板剂原位合成ZSM-5分子筛膜 | 第30-31页 |
| ·无模板剂原位合成ZSM-5分子筛膜 | 第31页 |
| ·结果与讨论 | 第31-34页 |
| ·不同模板剂合成的ZSM-5膜的XRD图和SEM图比较 | 第31-32页 |
| ·分子筛膜与平板不锈钢载体结合强度的比较 | 第32-34页 |
| ·小结 | 第34-35页 |
| 4 预涂晶种法二次生长Silicalite-1分子筛膜 | 第35-43页 |
| ·实验步骤 | 第35-36页 |
| ·晶种的制备 | 第35页 |
| ·晶种的预涂覆 | 第35-36页 |
| ·在涂覆晶种涂层的载体表面上电沉积铜 | 第36页 |
| ·电沉积铜后的金属片上二次生长Silicalite-1沸石膜 | 第36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-42页 |
| ·合成的Silicalite-1晶种的晶貌特征 | 第36-37页 |
| ·不同涂覆方法对晶种涂层的影响 | 第37-38页 |
| ·沉积金属铜后载体表面的EDX表征 | 第38-39页 |
| ·二次生长Silicalite-1分子筛膜形貌和结构 | 第39-41页 |
| ·结合强度检测 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-43页 |
| 5 原位晶种法二次生长Silicalite-1分子筛膜 | 第43-61页 |
| ·实验步骤 | 第44-45页 |
| ·原位水热合成晶种层 | 第44页 |
| ·晶种层上电沉积铜 | 第44页 |
| ·二次生长Silicalite-1分子筛膜 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-60页 |
| ·不同晶种层的合成方法对Silicalite-1分子筛膜影响 | 第45-47页 |
| ·合成条件对晶种层的影响 | 第47-50页 |
| ·金属载体表面Silicalite-1晶种层电沉积Cu条件的选择 | 第50-55页 |
| ·合成条件对二次生长Silicalite-1分子筛膜的影响 | 第55-60页 |
| ·小结 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第68-69页 |
| 致谢 | 第69-71页 |
