| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-19页 |
| 1.2.1 纳米线性质及应用研究现状 | 第11-14页 |
| 1.2.2 硅纳米线制备研究现状 | 第14-17页 |
| 1.2.3 液滴操控研究现状 | 第17-19页 |
| 1.2.4 液滴刻蚀加工研究现状 | 第19页 |
| 1.3 课题来源 | 第19-20页 |
| 1.4 主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 催化刻蚀和液滴操控的分析及模型建立 | 第22-33页 |
| 2.1 引言 | 第22页 |
| 2.2 银催化刻蚀制备纳米线机理 | 第22-24页 |
| 2.2.1 一步法 | 第22-23页 |
| 2.2.2 两步法 | 第23-24页 |
| 2.3 刻蚀反应硅溶解模型 | 第24-26页 |
| 2.3.1 四价溶解过程 | 第24-25页 |
| 2.3.2 二价溶解过程 | 第25-26页 |
| 2.4 液滴传输模型 | 第26-29页 |
| 2.4.1 基本假设 | 第26-27页 |
| 2.4.2 YOUNG-LAPLACE方程和液桥力计算 | 第27-28页 |
| 2.4.3 边界条件 | 第28-29页 |
| 2.5 微管末端的位姿计算 | 第29-32页 |
| 2.5.1 自由度计算 | 第30页 |
| 2.5.2 微管末端运动分析 | 第30-32页 |
| 2.6 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 可控液滴催化微纳刻蚀加工系统搭建及控制 | 第33-42页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 微纳刻蚀系统的搭建 | 第33-39页 |
| 3.2.1 气控液滴操控单元 | 第34-36页 |
| 3.2.2 显微视觉成像单元 | 第36-37页 |
| 3.2.3 运动定位单元 | 第37页 |
| 3.2.4 并联转角单元 | 第37-39页 |
| 3.3 基于视觉反馈的微纳刻蚀控制方法的研究 | 第39-41页 |
| 3.3.1 加工策略 | 第39-40页 |
| 3.3.2 软件控制 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 银催化刻蚀制备纳米线实验研究 | 第42-56页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 实验准备 | 第42-44页 |
| 4.2.1 实验材料 | 第42页 |
| 4.2.2 实验反应装置 | 第42-43页 |
| 4.2.3 实验所需仪器 | 第43-44页 |
| 4.3 实验内容 | 第44-46页 |
| 4.3.1 硅片清洗 | 第44-45页 |
| 4.3.2 溶液配置 | 第45页 |
| 4.3.3 实验步骤 | 第45页 |
| 4.3.4 实验结果分析 | 第45-46页 |
| 4.4 实验参数对实验影响 | 第46-54页 |
| 4.4.1 硝酸银影响 | 第47-48页 |
| 4.4.2 双氧水影响 | 第48-49页 |
| 4.4.3 刻蚀时间影响 | 第49-50页 |
| 4.4.4 刻蚀温度影响 | 第50-51页 |
| 4.4.5 光照影响 | 第51-54页 |
| 4.5 刻蚀后硅片反射率测量实验 | 第54-55页 |
| 4.6 本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 可控液滴催化微纳刻蚀实验研究 | 第56-65页 |
| 5.1 引言 | 第56页 |
| 5.2 实验机理 | 第56-57页 |
| 5.2.1 直写式催化刻蚀 | 第56-57页 |
| 5.2.2 水下催化刻蚀 | 第57页 |
| 5.3 实验结果及参数对实验的影响 | 第57-62页 |
| 5.3.1 工作参数对形貌种类的影响 | 第58-59页 |
| 5.3.2 工作参数对刻蚀特征大小的影响 | 第59-62页 |
| 5.4 刻蚀微图案的应用分析 | 第62-64页 |
| 5.4.1 纳米绒毛微型培养皿 | 第62-63页 |
| 5.4.2 纳米绒毛微流道 | 第63-64页 |
| 5.5 本章小结 | 第64-65页 |
| 结论 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71页 |