| 摘要 | 第6-8页 |
| abstract | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第14-21页 |
| 1.1 镁及其合金的特点及应用 | 第14-16页 |
| 1.1.1 镁及其合金简介 | 第14-15页 |
| 1.1.2 镁合金的种类及特点 | 第15-16页 |
| 1.2 微弧氧化概况 | 第16-17页 |
| 1.3 微弧氧化机理 | 第17-18页 |
| 1.4 影响微弧氧化的因素 | 第18-20页 |
| 1.4.1 电解液的影响 | 第18-19页 |
| 1.4.2 添加剂的影响 | 第19页 |
| 1.4.3 电源类型 | 第19页 |
| 1.4.4 工作模式 | 第19页 |
| 1.4.5 电参数的影响 | 第19-20页 |
| 1.4.6 镁合金基体材料的影响 | 第20页 |
| 1.5 本课题研究的主要内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验部分 | 第21-27页 |
| 2.1 实验材料 | 第21页 |
| 2.2 实验药品 | 第21-22页 |
| 2.3 实验仪器及设备 | 第22-23页 |
| 2.3.1 微弧氧化设备 | 第22-23页 |
| 2.4 微弧氧化膜的制备及工艺流程 | 第23-24页 |
| 2.4.1 工艺流程 | 第23页 |
| 2.4.2 试样前处理 | 第23页 |
| 2.4.3 电解液的配置 | 第23页 |
| 2.4.4 微弧氧化处理 | 第23-24页 |
| 2.4.5 试样后处理 | 第24页 |
| 2.5 正交试验 | 第24-25页 |
| 2.6 膜层性能测试 | 第25-27页 |
| 2.6.1 外观等级评价 | 第25页 |
| 2.6.2 厚度的检测 | 第25页 |
| 2.6.3 膜层耐蚀性测试 | 第25-26页 |
| 2.6.4 膜层表面微观形貌 | 第26页 |
| 2.6.5 膜层相成分分析 | 第26-27页 |
| 第3章 微弧氧化电解液的优化 | 第27-41页 |
| 3.1 正交试验及结果分析 | 第27-29页 |
| 3.2 硅酸钠质量浓度的影响 | 第29-32页 |
| 3.2.1 点滴实验分析 | 第29-31页 |
| 3.2.2 金相分析 | 第31页 |
| 3.2.3 电化学分析 | 第31-32页 |
| 3.3 三乙醇胺质量浓度的影响 | 第32-35页 |
| 3.3.1 点滴实验分析 | 第32-33页 |
| 3.3.2 电化学分析 | 第33-35页 |
| 3.4 四硼酸钠质量浓度的影响 | 第35-37页 |
| 3.4.1 点滴实验分析 | 第35-36页 |
| 3.4.2 电化学分析 | 第36-37页 |
| 3.5 氢氧化钠质量浓度的影响 | 第37-40页 |
| 3.5.1 点滴实验分析 | 第37-38页 |
| 3.5.2 电化学分析 | 第38-40页 |
| 3.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 第4章 添加剂增强镁合金微弧氧化膜的制备 | 第41-61页 |
| 4.1 添加剂丙三醇对镁合金微弧氧化膜层性能的影响 | 第41-44页 |
| 4.1.1 膜层外观检测和点滴实验 | 第41-42页 |
| 4.1.2 电化学测试 | 第42-43页 |
| 4.1.3 膜层表面形貌分析 | 第43-44页 |
| 4.2 添加剂EDTA对镁合金微弧氧化的影响 | 第44-47页 |
| 4.2.1 膜层外观检测和点滴实验 | 第44-45页 |
| 4.2.2 电化学测试 | 第45-47页 |
| 4.3 添加剂硝酸铈对镁合金微弧氧化的影响 | 第47-50页 |
| 4.3.1 试块外观检测和点滴实验 | 第47-48页 |
| 4.3.2 电化学测试 | 第48-50页 |
| 4.4 添加剂苯甲酸钠对微弧氧化的影响 | 第50-53页 |
| 4.4.1 膜层外观检测和点滴实验 | 第50-51页 |
| 4.4.2 电化学测试 | 第51-52页 |
| 4.4.3 膜层表面形貌分析 | 第52-53页 |
| 4.5 添加剂邻苯二甲酸氢钾对微弧氧化的影响 | 第53-55页 |
| 4.5.1 试块外观检测和点滴实验 | 第53-54页 |
| 4.5.2 电化学测试 | 第54-55页 |
| 4.5.3 膜层表面形貌分析 | 第55页 |
| 4.6 添加剂对比分析 | 第55-59页 |
| 4.6.1 硫酸铜点滴试验 | 第55-56页 |
| 4.6.2 浸泡实验 | 第56-57页 |
| 4.6.3 电化学测试 | 第57-59页 |
| 4.7 本章小结 | 第59-61页 |
| 第5章 粉体增强镁合金微弧氧化膜的制备 | 第61-80页 |
| 5.1 纳米Fe粉增强镁合金微弧氧化膜 | 第61-65页 |
| 5.1.1 纳米Fe粉质量浓度的影响 | 第61-62页 |
| 5.1.2 电化学测试 | 第62-63页 |
| 5.1.3 SEM和XRD分析 | 第63-64页 |
| 5.1.4 EDS分析 | 第64-65页 |
| 5.2 纳米Ti粉增强镁合金微弧氧化膜 | 第65-68页 |
| 5.2.1 纳米Ti粉质量浓度的影响 | 第65-66页 |
| 5.2.2 电化学测试 | 第66-67页 |
| 5.2.3 SEM和XRD分析 | 第67页 |
| 5.2.4 EDS分析 | 第67-68页 |
| 5.3 纳米Al_2O_3增强镁合金微弧氧化膜 | 第68-72页 |
| 5.3.1 纳米Al_2O_3质量浓度的影响 | 第68-69页 |
| 5.3.2 电化学测试 | 第69-70页 |
| 5.3.3 SEM和XRD分析 | 第70-71页 |
| 5.3.4 EDS分析 | 第71-72页 |
| 5.4 Y_2O_3粉体增强镁合金微弧氧化膜 | 第72-76页 |
| 5.4.1 纳米Y_2O_3粉体质量浓度的影响 | 第72-73页 |
| 5.4.2 电化学测试 | 第73-74页 |
| 5.4.3 SEM和XRD分析 | 第74-75页 |
| 5.4.4 EDS分析 | 第75-76页 |
| 5.5 对比分析 | 第76-78页 |
| 5.5.1 硫酸铜点滴试验 | 第76-77页 |
| 5.5.2 浸泡实验 | 第77页 |
| 5.5.3 极化曲线测试 | 第77-78页 |
| 5.6 本章小结 | 第78-80页 |
| 结论 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第87-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |