高效率磁流变抛光技术的研究与应用
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| ·前言 | 第11-12页 |
| ·磁流变抛光技术国内外发展及研究现状 | 第12-15页 |
| ·高效率磁流变抛光技术的研究背景及意义 | 第15页 |
| ·论文的主要研究内容及章节安排 | 第15-17页 |
| 第二章 磁流变抛光机理分析及其装置实现 | 第17-24页 |
| ·光学零件的传统加工方法 | 第17-19页 |
| ·磁流变抛光机理 | 第19-21页 |
| ·磁流变抛光装置实现 | 第21-23页 |
| ·本章小结 | 第23-24页 |
| 第三章 磁流变抛光液的研究 | 第24-38页 |
| ·磁流变液的研究与发展 | 第24-26页 |
| ·磁流变抛光液的性能要求 | 第26-27页 |
| ·磁流变抛光液的组成选取 | 第27-33页 |
| ·磁敏微粒选取 | 第27-29页 |
| ·基载液选取 | 第29-31页 |
| ·添加剂选取 | 第31-32页 |
| ·抛光磨粒选取 | 第32-33页 |
| ·磁流变抛光液的制备工艺路线 | 第33-34页 |
| ·磁流变液本构模型比较 | 第34-37页 |
| ·Bingham粘塑性模型 | 第34-35页 |
| ·双粘度模型 | 第35页 |
| ·Herschel-Bulkley模型 | 第35-36页 |
| ·其他模型研究 | 第36-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 磁流变抛光液的初步应用及实验 | 第38-63页 |
| ·磁流变抛光的实验目的及实验条件 | 第38-39页 |
| ·实验工艺参数的选定 | 第39-40页 |
| ·材料去除实验及结果分析 | 第40-57页 |
| ·实验方案设计及结果 | 第40-42页 |
| ·对材料去除率影响的显著性水平分析 | 第42-44页 |
| ·抛光磨粒浓度对材料去除率的影响规律分析 | 第44-46页 |
| ·抛光磨粒粒径对材料去除率的影响规律分析 | 第46-48页 |
| ·磁敏微粒含量对材料去除率的影响规律分析 | 第48-50页 |
| ·材料去除深度微观形貌的初步研究 | 第50-57页 |
| ·表面粗糙度实验及结果分析 | 第57-61页 |
| ·实验方案设计及结果 | 第57-60页 |
| ·对表面粗糙度影响的显著性水平分析 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第五章 总结与展望 | 第63-66页 |
| ·研究工作总结 | 第63-64页 |
| ·进一步的展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-71页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文和申请的专利 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
