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Ni-MOFs/SBS混合基质膜的制备及其在CH4/N2分离中的应用

摘要第3-5页
ABSTRACT第5-7页
第一章 绪论第11-31页
    1.1 甲烷氮气分离的意义第11-13页
    1.2 甲烷气体分离的主要方法第13-18页
        1.2.1 深冷分离法第13-14页
        1.2.2 变压吸附法第14-17页
        1.2.3 膜分离法第17-18页
    1.3 气体膜分离的传质机理第18-21页
        1.3.1 多孔膜传质机理第18-20页
        1.3.2 非多孔膜传质机理第20页
        1.3.3 气体分离膜的分离上限第20-21页
    1.4 气体分离膜的材料第21-28页
        1.4.1 混合基质膜第22-23页
        1.4.2 气体膜分离的过程中常用的无机填充材料第23-26页
        1.4.3 嵌段聚合物基甲烷气体分离膜第26-28页
    1.5 本论文的选题意义及研究内容第28-31页
第二章 实验部分第31-37页
    2.1 实验药品及仪器第31-32页
        2.1.1 实验药品第31页
        2.1.2 实验仪器第31-32页
    2.2 表征方法第32-34页
        2.2.1 X射线衍射仪(XRD)第32页
        2.2.2 红外分析(FT-IR)第32-33页
        2.2.3 扫描电子显微镜(SEM)第33页
        2.2.4 热重分析(TGA)第33页
        2.2.5 比表面积及孔径分析测试(BET)第33-34页
    2.3 气体分离性能测试第34-37页
        2.3.1 单气体分离性能测试第34-35页
        2.3.2 混合气体分离性能测试第35-37页
第三章 [NI_3(HCOO)_6]/SBS混合基质膜的制备及其在CH_4/N_2分离性能第37-55页
    3.1 引言第37-38页
    3.2 混合基质膜的制备第38-39页
        3.2.1 [Ni_3(HCOO)_6]的合成第38页
        3.2.2 [Ni_3(HCOO)_6]/SBS混合基质膜的制备第38-39页
    3.3 [NI_3(HCOO)_6]晶体的表征第39-41页
        3.3.1 [Ni_3(HCOO)_6]晶体的XRD表征第39-40页
        3.3.2 [Ni_3(HCOO)_6]晶体的SEM表征第40-41页
    3.4 [NI_3(HCOO)_6]/SBS混合基质膜的表征第41-45页
        3.4.1 X射线衍射分析(XRD)第41页
        3.4.2 红外光谱结构分析(FT-IR)第41-43页
        3.4.3 形貌分析(SEM)第43-44页
        3.4.4 热稳定性分析(TGA)第44-45页
    3.5 [NI_3(HCOO)_6]/SBS混合基质膜的单气体CH_4/N_2分离性能第45-50页
        3.5.1 [Ni_3(HCOO)_6]含量对单气体CH_4/N_2分离性能的影响第45-47页
        3.5.2 温度对单气体CH_4/N_2分离性能的影响第47-49页
        3.5.3 压力单气体CH_4/N_2分离性能的影响第49-50页
    3.6 [NI_3(HCOO)_6]/SBS混合基质膜的CH_4/N_2混合气体分离性能第50-51页
    3.7 本章制备的MMMS与其它聚合物膜的分离性能的比较第51-53页
    3.8 本章小结第53-55页
第四章 NI-MOF-74/SBS混合基质膜的制备及其在CH_4/N_2分离性能第55-71页
    4.1 引言第55页
    4.2 混合基质膜的制备第55-57页
        4.2.1 Ni-MOF-74的合成第55-56页
        4.2.2 Ni-MOF-74/SBS混合基质膜的制备第56-57页
    4.3 NI-MOF-74的表征第57-59页
        4.3.1 Ni-MOF-74的XRD表征第57-58页
        4.3.2 Ni-MOF-74的SEM表征第58页
        4.3.3 Ni-MOF-74的BET表征第58-59页
    4.4 NI-MOF-74/SBS混合基质膜的表征第59-63页
        4.4.1 X射线衍射分析(XRD)第59-60页
        4.4.2 红外光谱结构分析(FT-IR)第60页
        4.4.3 表截面形貌分析(SEM)第60-62页
        4.4.4 热稳定性分析(TGA)第62-63页
    4.5 NI-MOF-74/SBS混合基质膜的单气体CH_4/N_2分离性能第63-67页
        4.5.1 Ni-MOF-74含量对单气体CH_4/N_2分离性能的影响第63-65页
        4.5.2 温度对单气体CH_4/N_2分离性能的影响第65-67页
    4.6 NI-MOF-74/SBS混合基质膜的CH_4/N_2混合气体分离性能第67-68页
    4.7 本章制备的MMMS与其它MMMS的分离性能比较第68-69页
    4.8 本章小结第69-71页
第五章 结论与展望第71-73页
    5.1 主要研究结论第71-72页
    5.2 展望与建议第72-73页
参考文献第73-81页
论文发表情况第81-83页
致谢第83页

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