| 摘要 | 第6-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-21页 |
| 1.1 TiAlN涂层 | 第12页 |
| 1.2 TiAlN涂层晶体结构与性能 | 第12-13页 |
| 1.2.1 TiAlN涂层的晶体结构 | 第12-13页 |
| 1.2.2 TiAlN涂层的性能 | 第13页 |
| 1.3 涂层的后处理技术 | 第13-16页 |
| 1.3.1 常规后处理技术 | 第14页 |
| 1.3.2 强流脉冲电子束表面改性技术 | 第14-16页 |
| 1.4 强流脉冲电子束轰击对材料组织和性能的影响 | 第16-19页 |
| 1.4.1 强流脉冲电子束轰击对材料组织的影响 | 第16-17页 |
| 1.4.2 强流脉冲电子束处理对材料性能的影响 | 第17-19页 |
| 1.5 TiAlN涂层的研究进展 | 第19-20页 |
| 1.6 本论文的研究意义和主要工作 | 第20-21页 |
| 第2章 实验及研究方法 | 第21-28页 |
| 2.1 实验材料 | 第21页 |
| 2.2 实验设备及工艺参数 | 第21-23页 |
| 2.2.1 强流脉冲电子束设备 | 第21-23页 |
| 2.2.2 TiAlN涂层辐照的工艺参数 | 第23页 |
| 2.3 分析方法及手段 | 第23-28页 |
| 2.3.1 表面及截面形貌观察及成分检测 | 第23-24页 |
| 2.3.2 物相分析 | 第24页 |
| 2.3.3 晶格常数测定 | 第24-25页 |
| 2.3.4 残余应力测定 | 第25-26页 |
| 2.3.5 纳米硬度和弹性模量测试 | 第26-28页 |
| 第3章 理论研究方法和TiAlN模型建立及参数选择 | 第28-39页 |
| 3.1 第一性原理计算 | 第28-30页 |
| 3.2 密度泛函理论 | 第30-31页 |
| 3.3 局与密度近似和广义梯度近似 | 第31-32页 |
| 3.4 计算软件及方法 | 第32-33页 |
| 3.5 理论计算方法 | 第33-34页 |
| 3.5.1 能带理论基础 | 第33页 |
| 3.5.2 材料力学性质基础 | 第33-34页 |
| 3.6 Ti4Al4N8的计算模型和参数设置 | 第34-39页 |
| 3.6.1 Ti_4Al_4N_8计算模型 | 第34-35页 |
| 3.6.2 计算参数设定 | 第35-36页 |
| 3.6.3 参数选择的验证 | 第36-39页 |
| 第4章 TiAlN涂层强流脉冲电子束处理组织结构分析 | 第39-62页 |
| 4.1 TiAlN涂层强流脉冲电子束表面分析讨论 | 第39-40页 |
| 4.2 TiAlN涂层强流脉冲电子束处理组织结构分析 | 第40-49页 |
| 4.2.1 TiAlN涂层强流脉冲电子束的显微组织分析 | 第40-43页 |
| 4.2.2 TiAlN涂层强流脉冲电子束处理的成分影响 | 第43-44页 |
| 4.2.3 TiAlN涂层强流脉冲电子束处理的XRD分析 | 第44-45页 |
| 4.2.4 TiAlN涂层强流脉冲电子束处理的晶格常数分析 | 第45-46页 |
| 4.2.5 TiAlN涂层强流脉冲电子束处理残余应力分析 | 第46-49页 |
| 4.3 不同晶格常数TiAlN结构性质的计算分析 | 第49-54页 |
| 4.3.1 不同晶格常数的Ti_4Al_4N_8电子结构的计算和分析 | 第49-50页 |
| 4.3.2 不同晶格常数TiAlN的态密度计算和分析 | 第50-54页 |
| 4.4 TiAlN涂层强流脉冲电子束处理的力学性能影响 | 第54-55页 |
| 4.5 不同应力下TiAlN涂层的力学性能计算和分析 | 第55-57页 |
| 4.5.1 TiAlN涂层强流脉冲电子束处理的弹性常数的变化 | 第55-56页 |
| 4.5.2 TiAlN涂层强流脉冲电子束处理的模量的变化 | 第56-57页 |
| 4.6 空位对TiAlN涂层的电子结构和力学性能的影响 | 第57-62页 |
| 4.6.1 空位对TiAlN涂层电子结构的影响 | 第58-61页 |
| 4.6.2 空位对TiAlN涂层力学性能的影响 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 攻读硕士期间发表的论文和取得的科研成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
