基于退火工艺的有序金属纳米颗粒阵列可控制备方法关键技术研究
| 摘要 | 第10-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-22页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第13-14页 |
| 1.2 文献综述 | 第14-20页 |
| 1.2.1 纳米球光刻技术制备的基底 | 第14-15页 |
| 1.2.2 掠角倾斜蒸镀制备的基底 | 第15页 |
| 1.2.3 模板辅助制备的基底 | 第15-17页 |
| 1.2.4 结合退火方法制备的基底 | 第17-20页 |
| 1.3 论文主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第二章 金属纳米颗粒结构阵列制备关键工艺研究 | 第22-32页 |
| 2.1 金属膜沉积工艺研究 | 第22-24页 |
| 2.2 退火工艺研究 | 第24-28页 |
| 2.2.1 退火样片基底制备流程 | 第24-25页 |
| 2.2.2 退火温度对金纳米颗粒形成的影响 | 第25-26页 |
| 2.2.3 退火时间对纳米金颗粒形成的影响 | 第26-27页 |
| 2.2.4 金膜厚度对纳米金颗粒形成的影响 | 第27-28页 |
| 2.3 原子层沉积工艺研究 | 第28-31页 |
| 2.3.1 ALD技术基本工艺方法 | 第29页 |
| 2.3.2 ALD技术的保形性研究 | 第29-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第三章 层叠金花纳米结构制备工艺研究 | 第32-42页 |
| 3.1 层叠金花纳米结构可控制备 | 第32-36页 |
| 3.1.1 层叠金花纳米结构工艺流程设计 | 第32-33页 |
| 3.1.2 层叠金花纳米结构形貌表征 | 第33-36页 |
| 3.2 层叠金花结构形貌影响因素 | 第36-37页 |
| 3.2.1 金膜厚度对退火效果的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.2 退火参数对结构形貌的影响 | 第37页 |
| 3.3 层叠金花纳米结构电磁学特性分析 | 第37-39页 |
| 3.4 层叠金花纳米结构SERS性能表征 | 第39-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 第四章 有序金属纳米颗粒结构阵列制备工艺研究 | 第42-58页 |
| 4.1 周期金属纳米颗粒结构阵列可控制备 | 第42-48页 |
| 4.1.1 周期金属纳米颗粒结构阵列工艺流程设计 | 第42-43页 |
| 4.1.2 周期金属纳米颗粒阵列形貌表征 | 第43-45页 |
| 4.1.3 退火参数对纳米颗粒结构形貌的影响 | 第45-47页 |
| 4.1.4 金纳米颗粒结构阵列的电磁学特性分析 | 第47-48页 |
| 4.2 周期葫芦状金纳米颗粒结构阵列可控制备 | 第48-57页 |
| 4.2.1 AuPOP结构阵列工艺流程设计 | 第48-49页 |
| 4.2.2 AuPOP结构阵列形貌表征 | 第49-50页 |
| 4.2.3 AuPOP结构阵列形貌的影响因素 | 第50-55页 |
| 4.2.4 AuPOP结构阵列电磁学特性分析 | 第55-56页 |
| 4.2.5 AuPOP结构阵列的SERS性能表征 | 第56-57页 |
| 4.3 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 膜上周期性金属颗粒结构阵列制备工艺研究 | 第58-72页 |
| 5.1 膜上周期性金属颗粒结构阵列可控制备 | 第58-62页 |
| 5.1.1 PS亚亲水表面旋涂自组装工艺研究 | 第58-60页 |
| 5.1.2 AuPOF结构阵列工艺流程设计 | 第60-61页 |
| 5.1.3 AuPOF结构阵列形貌表征 | 第61-62页 |
| 5.2 AuPOF结构阵列形貌影响因素 | 第62-67页 |
| 5.2.1 氧化铝薄膜对AuPOF结构形貌的影响 | 第62-63页 |
| 5.2.2 退火参数对结构形貌的影响 | 第63-67页 |
| 5.3 AuPOF结构阵列电磁学特性分析 | 第67-69页 |
| 5.4 AuPOF结构阵列的SERS性能表征 | 第69-70页 |
| 5.5 本章小结 | 第70-72页 |
| 第六章 总结与展望 | 第72-75页 |
| 6.1 主要工作 | 第72-73页 |
| 6.2 研究展望 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-83页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第83页 |
