| 摘要 | 第8-9页 |
| abstract | 第9页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外同类表面清理技术发展概况 | 第12-14页 |
| 1.2.1 酸洗清理技术 | 第12页 |
| 1.2.2 干法抛丸清理技术 | 第12-13页 |
| 1.2.3 高压水射流喷砂技术 | 第13页 |
| 1.2.4 SCS (Smooth Clean Surface)清理技术 | 第13-14页 |
| 1.2.5 氢还原清理技术 | 第14页 |
| 1.3 EPS湿法抛丸清理技术 | 第14-15页 |
| 1.3.1 湿法抛丸技术 | 第14-15页 |
| 1.3.2 湿法抛丸技术的优势 | 第15页 |
| 1.4 空蚀作用概述 | 第15-16页 |
| 1.5 论文研究的主要内容 | 第16-17页 |
| 1.6 技术路线 | 第17-19页 |
| 第二章 湿法抛丸冲蚀摩擦学特性分析 | 第19-31页 |
| 2.1 干法抛丸中氧化皮的破坏机理分析 | 第19-20页 |
| 2.2 湿法抛丸中液固射流对氧化皮的冲蚀机理 | 第20-24页 |
| 2.2.1 磨料对氧化皮的冲蚀作用 | 第20-22页 |
| 2.2.2 水射流对氧化皮的冲蚀作用 | 第22-23页 |
| 2.2.3 近壁面微颗粒和微空泡的空蚀作用 | 第23-24页 |
| 2.3 单磨料冲蚀动能分析 | 第24-28页 |
| 2.3.1 单磨料有效冲蚀动能 | 第24页 |
| 2.3.2 单磨料有效冲蚀动能的修正 | 第24-27页 |
| 2.3.3 修正后的单磨料有效冲蚀动能 | 第27-28页 |
| 2.4 液固射流对氧化皮的局部作用力 | 第28-29页 |
| 2.5 本章小结 | 第29-31页 |
| 第三章 湿法抛丸冲蚀过程仿真分析 | 第31-43页 |
| 3.1 有限元模型的建立 | 第31-35页 |
| 3.1.1 模型简化 | 第32-33页 |
| 3.1.2 定义单元类型与材料参数 | 第33页 |
| 3.1.3 网格划分 | 第33-34页 |
| 3.1.4 接触、约束、初速度设定 | 第34页 |
| 3.1.5 求解控制设置 | 第34-35页 |
| 3.2 结果后处理与分析 | 第35-42页 |
| 3.2.1 用控制变量法组合的仿真结果分析 | 第35-39页 |
| 3.2.2 用正交试验法组合的仿真结果分析 | 第39-42页 |
| 3.2.3 抛丸工艺参数选取 | 第42页 |
| 3.3 本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 耦合体的运动学分析及模型构建 | 第43-55页 |
| 4.1 耦合体的加速运动分析及模型构建 | 第43-50页 |
| 4.1.1 耦合体抛射初速度 | 第43-48页 |
| 4.1.2 耦合体抛射角 | 第48-49页 |
| 4.1.3 耦合体在叶片中角位移 | 第49-50页 |
| 4.2 耦合体被抛出后的运动学分析及模型构建 | 第50-54页 |
| 4.2.1 耦合体抛射速度 | 第50-53页 |
| 4.2.2 抛射带宽度 | 第53-54页 |
| 4.2.3 耦合体到达钢板时最远抛射距离 | 第54页 |
| 4.2.4 一对抛丸器中心轴距 | 第54页 |
| 4.3 本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 湿法抛丸装置结构设计 | 第55-79页 |
| 5.1 湿法抛丸器的结构参数确定 | 第55-59页 |
| 5.1.1 电机额定转速与叶片内外半径 | 第55-56页 |
| 5.1.2 湿法抛丸器中心轴距及垂直抛射距离 | 第56-58页 |
| 5.1.3 湿法抛丸器的结构性能参数 | 第58-59页 |
| 5.2 循环回收系统原理图设计 | 第59-60页 |
| 5.3 湿法抛丸器结构设计 | 第60-65页 |
| 5.3.1 喷嘴 | 第62页 |
| 5.3.2 定向套 | 第62-63页 |
| 5.3.3 连接支撑管与压紧板条 | 第63页 |
| 5.3.4 叶轮叶片与联接装置 | 第63-64页 |
| 5.3.5 护板及密封条 | 第64-65页 |
| 5.4 抛打室结构设计 | 第65-69页 |
| 5.4.1 抛打室体 | 第65-66页 |
| 5.4.2 辊道输送装置 | 第66-67页 |
| 5.4.3 抛打室体密封装置 | 第67-69页 |
| 5.5 螺旋固液分离器结构设计 | 第69-71页 |
| 5.5.1 螺旋固液分离器箱体 | 第69-70页 |
| 5.5.2 螺旋输送轴及密封结构 | 第70-71页 |
| 5.6 振动与磁选联合分离装置结构设计 | 第71-75页 |
| 5.6.1 振动装置 | 第72-73页 |
| 5.6.2 磁选分离装置 | 第73-75页 |
| 5.7 多级阻碍沉淀技术 | 第75-76页 |
| 5.8 大流量组合式涡旋流体净化技术 | 第76页 |
| 5.9 液固混合喷射装置结构设计 | 第76-77页 |
| 5.10 湿法抛丸装置二维装配图 | 第77-78页 |
| 5.11 本章小结 | 第78-79页 |
| 第六章 结论与展望 | 第79-81页 |
| 6.1 结论 | 第79-80页 |
| 6.2 展望 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 致谢 | 第87-89页 |
| 附录 | 第89页 |