摘要 | 第3-4页 |
ABSTRACT | 第4-5页 |
目录 | 第6-9页 |
第一章 绪论 | 第9-26页 |
1.1 研究背景和意义 | 第9页 |
1.2 薄膜制备方法 | 第9-12页 |
1.2.1 物理气相沉积 PVD | 第10-11页 |
1.2.2 化学气相沉积 CVD | 第11-12页 |
1.3 纳米薄膜脱粘屈曲研究进展 | 第12-24页 |
1.3.1 初始缺陷对薄膜屈曲的影响 | 第15-17页 |
1.3.2 残余应力对薄膜屈曲的影响 | 第17-20页 |
1.3.3 界面粘附强度及界面裂纹 | 第20-24页 |
1.4 本文主要工作 | 第24-26页 |
第二章 纳米薄膜内应力测试及屈曲应力分布研究 | 第26-51页 |
2.1 残余应力研究现状 | 第26页 |
2.2 残余应力形成机理 | 第26-29页 |
2.3 本章主要工作 | 第29-30页 |
2.4 曲率法测量薄膜残余应力 | 第30-33页 |
2.4.1 Stoney 公式 | 第30-31页 |
2.4.2 试件制备及薄膜应力测试 | 第31-33页 |
2.5 基于 X 射线衍射的薄膜残余应力测试方法 | 第33-37页 |
2.6 基于屈曲形貌残余应力测试 | 第37-38页 |
2.7 金属纳米薄膜屈曲形貌上的应力分布研究 | 第38-50页 |
2.7.1 试件制备 | 第40-41页 |
2.7.2 微尺度扫描 X 射线衍射应力测试 | 第41-43页 |
2.7.3 有限元建模 | 第43-45页 |
2.7.4 缺陷扰动 | 第45页 |
2.7.5 载荷施加 | 第45-46页 |
2.7.6 结果与讨论 | 第46-50页 |
2.8 小结 | 第50-51页 |
第三章 薄膜屈曲形貌的实验及理论研究 | 第51-63页 |
3.1 直线型屈曲三维形貌的实验及理论分析 | 第51-56页 |
3.1.1 薄膜分析 | 第52页 |
3.1.2 屈曲分析 | 第52-53页 |
3.1.3 能量分析 | 第53-55页 |
3.1.4 不同外加载荷下的直线型屈曲 | 第55-56页 |
3.2 屈曲三维形貌光学测量研究 | 第56-62页 |
3.2.1 试件制备 | 第57-58页 |
3.2.2 调焦法测三维形貌 | 第58-60页 |
3.2.3 电话线型屈曲形貌测量 | 第60-62页 |
3.3 小结 | 第62-63页 |
第四章 纳米薄膜屈曲稳定性研究 | 第63-79页 |
4.1 直线型屈曲二次失稳的研究现状 | 第63-66页 |
4.2 直线型屈曲及其二次失稳的实验研究 | 第66-69页 |
4.3 直线型屈曲的二次失稳有限元研究 | 第69-71页 |
4.4 直线型屈曲二次失稳模式研究 | 第71-76页 |
4.5 残余应力作用下的复杂屈曲形貌 | 第76-77页 |
4.6 小结 | 第77-79页 |
第五章 界面模型影响下的薄膜屈曲演化及界面裂纹扩展 | 第79-105页 |
5.1 薄膜屈曲驱动下的界面裂纹扩展 | 第79-84页 |
5.2 混合界面裂纹失效准则 | 第84-89页 |
5.2.1 界面破坏的内聚力模型(Cohesive Behavior) | 第84页 |
5.2.2 损伤起始判据 | 第84-86页 |
5.2.3 损伤演化分析 | 第86-89页 |
5.3 基于屈曲形貌的界面能测试方法 | 第89-91页 |
5.4 基于断裂判据拟合的界面能测试方法 | 第91-95页 |
5.4.4 基于幂律准则界面能拟合法 | 第93-94页 |
5.4.5 基于 B-K 准则界面能拟合法 | 第94-95页 |
5.5 薄膜/基底界面关系的确定 | 第95-98页 |
5.6 屈曲驱动下的界面裂纹扩展及屈曲形貌演化 | 第98-104页 |
5.6.1 模型的建立 | 第99-101页 |
5.6.2 边界条件及载荷的施加 | 第101-102页 |
5.6.3 结果及讨论 | 第102-104页 |
5.7 小结 | 第104-105页 |
第六章 总结与展望 | 第105-107页 |
参考文献 | 第107-115页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第115-117页 |
致谢 | 第117页 |