摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-9页 |
第一章 绪论 | 第13-27页 |
1.1 集成光学与光波导调制器 | 第14-15页 |
1.2 光调制机理与材料 | 第15-18页 |
1.2.1 线性电光效应及主要的电光材料 | 第16-17页 |
1.2.2 电吸收效应及材料 | 第17-18页 |
1.3 各类电光调制器特点及应用 | 第18-20页 |
1.3.1 各种电光调制器的特点 | 第18-20页 |
1.3.2 电光调制器的应用 | 第20页 |
1.4 有机聚合物电光调制器的国内外研究状况 | 第20-25页 |
1.4.1 国际上有机聚合物电光调制器的研究 | 第20-25页 |
1.4.2 国内在有机聚合物电光调制器方面的研究 | 第25页 |
1.5 本论文的组织安排 | 第25-26页 |
1.6 本章小结 | 第26-27页 |
第二章 电光聚合物材料及其特性 | 第27-41页 |
2.1 有机聚合物材料的电光特性 | 第27-30页 |
2.2 电光聚合物材料的光损耗 | 第30页 |
2.3 电光聚合物材料的热稳定性 | 第30-31页 |
2.4 电光特性的表征——简单反射法的基本理论 | 第31-33页 |
2.5 光损耗的测量 | 第33-37页 |
2.6 新型电光材料的合成与表征 | 第37-40页 |
2.6.1 FFC的合成与FFC/PSU薄膜的制备 | 第38-39页 |
2.6.2 FFC/PSU薄膜的极化与电光系数测量 | 第39-40页 |
2.7 本章小结 | 第40-41页 |
第三章 聚合物脊形光波导的分析 | 第41-67页 |
3.1 光的电磁波理论 | 第41-43页 |
3.1.1 Maxwell方程组 | 第41-42页 |
3.1.2 电磁场的边界条件 | 第42页 |
3.1.3 波动方程 | 第42-43页 |
3.2 光波导的变分有效折射率法分析 | 第43-48页 |
3.2.1 变分有效折射率法的基本理论 | 第44-46页 |
3.2.2 脊形波导中TE、TM模的色散特性分析 | 第46-47页 |
3.2.3 TM模的横向光场分布 | 第47-48页 |
3.3 聚合物光波导的偏振色散分析 | 第48-55页 |
3.3.1 标量变分公式和偏振微扰修正 | 第48-50页 |
3.3.2 分析结果和讨论 | 第50-51页 |
3.3.3 多模波导的偏振色散特性 | 第51-54页 |
3.3.4 基模的偏振模色散 | 第54-55页 |
3.4 聚合物光波导传输特性的有限差分法分析 | 第55-61页 |
3.4.1 有效折射率的确定 | 第56页 |
3.4.2 束传播法的基本方程 | 第56-57页 |
3.4.3 透明边界条件 | 第57-58页 |
3.4.4 M-Z波导的TM模分析 | 第58-60页 |
3.4.4.1 波导结构及主要参数 | 第58-59页 |
3.4.4.2 脊宽W对损耗的影响 | 第59-60页 |
3.4.4.3 Y分支夹角的影响 | 第60页 |
3.4.5 优化结果 | 第60-61页 |
3.5 聚合物光波导的OE-BPM法分析 | 第61-66页 |
3.5.1 算子展开束传播法的基本理论 | 第61-64页 |
3.5.2 M-Z波导的TM模分析 | 第64-66页 |
3.6 本章小结 | 第66-67页 |
第四章 微波行波电极的分析 | 第67-92页 |
4.1 微带线的分析及其性能 | 第67-71页 |
4.1.1 微带线中的模式 | 第67-69页 |
4.1.2 微带线的特性阻抗 | 第69-70页 |
4.1.3 微带线的损耗 | 第70-71页 |
4.2 共面线及其性能 | 第71-72页 |
4.2.1 共面线的特性阻抗 | 第71-72页 |
4.2.2 共面线的损耗 | 第72页 |
4.3 微波网络的散射参量 | 第72-74页 |
4.4 传统行波电极的优化设计 | 第74-79页 |
4.5 斜坡过渡行波电极 | 第79-83页 |
4.6 屏蔽微带线的分析 | 第83-91页 |
4.7 本章小结 | 第91-92页 |
第五章 电光聚合物光波导调制器的优化设计 | 第92-103页 |
5.1 M-Z电光调制器及其特性参量 | 第92-93页 |
5.2 基于光波导的M-Z电光调制器 | 第93-94页 |
5.3 调制器的响应与带宽 | 第94-95页 |
5.4 光波导的设计 | 第95-100页 |
5.4.1 单模光波导 | 第95-97页 |
5.4.2 电极诱导的光损耗 | 第97-99页 |
5.4.3 光波导的弯曲光损耗 | 第99-100页 |
5.5 电光调制器的宽带响应函数 | 第100-102页 |
5.6 本章小结 | 第102-103页 |
第六章 聚合物光波导器件的制备 | 第103-117页 |
6.1 旋涂 | 第103-104页 |
6.2 极化 | 第104-106页 |
6.2.1 电晕极化 | 第104-105页 |
6.2.2 接触极化 | 第105-106页 |
6.3 刻蚀 | 第106-107页 |
6.3.1 干法刻蚀 | 第106-107页 |
6.3.2 湿法刻蚀 | 第107页 |
6.4 电镀 | 第107-108页 |
6.5 切割 | 第108页 |
6.6 电光聚合物光波导调制器的制备 | 第108-116页 |
6.6.1 下电极的制备 | 第109-110页 |
6.6.2 下包层的制备 | 第110-111页 |
6.6.3 芯层的制备与极化 | 第111页 |
6.6.4 上包层的制备 | 第111页 |
6.6.5 上电极的制备 | 第111-112页 |
6.6.6 单元器件和耦合 | 第112-115页 |
6.6.7 阵列器件 | 第115-116页 |
6.7 本章小结 | 第116-117页 |
第七章 结论 | 第117-119页 |
7.1 本文的主要工作 | 第117-118页 |
7.2 下一步工作展望 | 第118-119页 |
致谢 | 第119-120页 |
参考文献 | 第120-128页 |
攻博期间取得的研究成果 | 第128-129页 |