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硬脆材料超声波振动辅助研磨抛光的仿真与试验研究

本文工作得到下列项目资助第4-5页
摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第12-24页
    1.1 研究背景及意义第12-13页
    1.2 国内外研究现状与发展趋势第13-23页
        1.2.1 研磨与抛光加工的理论模型第13-16页
        1.2.2 研磨与抛光加工技术的工艺改善第16-20页
        1.2.3 超声波振动加工第20-23页
    1.3 本文研究内容第23-24页
第2章 超声波振动辅助研磨抛光加工试验装置第24-40页
    2.1 试验装置组成第24-29页
        2.1.1 超声波振动辅助研磨抛光加工装置第24-27页
        2.1.2 超声波振动装置第27-29页
        2.1.3 试验辅助装置第29页
    2.2 试验方案与流程第29-36页
        2.2.1 试验方案第29-32页
        2.2.2 试验流程及注意事项第32-36页
    2.3 试验材料与试剂第36-39页
        2.3.1 单晶硅材料第36-37页
        2.3.2 研磨与抛光试剂第37-38页
        2.3.3 试验原料和试剂第38-39页
    2.4 本章小结第39-40页
第3章 超声波振动辅助研磨抛光加工的试验研究第40-66页
    3.1 工艺参数对研磨加工的材料去除率和表面粗糙度变化值的影响第40-50页
        3.1.1 研磨压强的影响第40-42页
        3.1.2 研磨转速的影响第42-44页
        3.1.3 磨粒尺寸的影响第44-46页
        3.1.4 研磨液浓度的影响第46-48页
        3.1.5 研磨时间的影响第48-50页
    3.2 工艺参数对抛光加工的材料去除率和表面形貌的影响第50-58页
        3.2.1 抛光压强的影响第50-52页
        3.2.2 抛光转速的影响第52-54页
        3.2.3 抛光液流量的影响第54-56页
        3.2.4 超声波振动辅助抛光对加工试件表面形貌的影响第56-58页
    3.3 超声波振动辅助研磨抛光加工过程的材料去除机理第58-64页
        3.3.1 研磨材料去除过程第58-60页
        3.3.2 抛光材料去除过程第60-62页
        3.3.3 超声波振动下的研磨抛光材料去除机理第62-64页
    3.4 本章小结第64-66页
第4章 研磨抛光加工过程的有限元仿真分析第66-90页
    4.1 有限元仿真软件的介绍第66页
    4.2 有限元仿真模型的建立第66-70页
        4.2.1 三维仿真几何模型第66-68页
        4.2.2 材料本构模型第68-69页
        4.2.3 仿真原理第69-70页
        4.2.4 仿真数据提取模型第70页
        4.2.5 仿真条件第70页
    4.3 仿真方案及流程第70-74页
        4.3.1 仿真方案第70-72页
        4.3.2 仿真流程第72-74页
    4.4 研磨抛光过程的三维有限元仿真结果与分析第74-88页
        4.4.1 粘连系数的影响第74-79页
        4.4.2 磨粒尺寸的影响第79-82页
        4.4.3 切削深度的影响第82-85页
        4.4.4 超声波振动的影响第85-88页
    4.5 本章小结第88-90页
第5章 结论与展望第90-94页
参考文献第94-102页
作者简介及攻读学位期间的论文及专利成果第102-104页
    一、作者简介:第102页
    二、主要研究成果第102-104页
致谢第104页

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