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S波段窄带带通BAW滤波器设计

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-15页
    1.1 课题研究背景第9-10页
    1.2 BAW滤波器发展现状第10-14页
    1.3 本文组织安排第14-15页
2 设计基础第15-23页
    2.1 FBAR工作原理第15-17页
    2.2 BAW滤波器工作原理第17-18页
    2.3 FBAR电路模型第18-21页
        2.3.1 Mason模型第18-20页
        2.3.2 BVD与MBVD电路模型第20-21页
    2.4 FBAR两个性能指标第21-22页
        2.4.1 k_(eff)~2第21页
        2.4.2 Q值第21-22页
    2.5 滤波器设计指标第22页
    2.6 小结第22-23页
3 FBAR设计第23-40页
    3.1 材料选择第23-24页
    3.2 较高K_(EFF)~2的FBAR设计第24-29页
        3.2.1 电极/压电层厚度比对k_(eff)~2的影响第24-27页
        3.2.2 Al N材料C轴取向对k_(eff)~2的影响第27-29页
    3.3 较高Q值的FBAR设计第29-39页
        3.3.1 寄生谐振对Q值的影响第29页
        3.3.2 电极变迹抑制寄生谐振第29-33页
        3.3.3 电极加框改善Q值第33-35页
        3.3.4 仿真设计和结果分析第35-39页
    3.4 小结第39-40页
4 BAW滤波器的结构参数设计第40-58页
    4.1 考虑温漂的技术指标第40-42页
    4.2 初始设计模型第42-43页
    4.3 中心频率与带宽设计第43-47页
        4.3.1 中心频率影响因素分析第43页
        4.3.2 带宽影响因素分析第43-44页
        4.3.3 FBAR膜层厚度确定第44-47页
    4.4 带外抑制与带内插损设计第47-52页
        4.4.1 影响因素分析第47页
        4.4.2 级联阶数确定第47-50页
        4.4.3 各FBAR面积确定第50-52页
    4.5 优化设计结果第52-54页
    4.6 电感对带外抑制的改善第54-57页
        4.6.1 原理第54-55页
        4.6.2 最小电感的位置确定第55-56页
        4.6.3 带外抑制与电感值的折中第56-57页
    4.7 小结第57-58页
5 版图与工艺设计第58-75页
    5.1 BAW滤波器布局第58-64页
        5.1.1 布局准则第58-59页
        5.1.2 布局流程第59-61页
        5.1.3 案例第61-64页
    5.2 声-电磁协同仿真验证第64-68页
        5.2.1 建模第65-66页
        5.2.2 性能评估第66-67页
        5.2.3 结果与讨论第67-68页
    5.3 加工工艺流程设计第68-70页
    5.4 光刻掩膜版设计第70-74页
    5.5 小结第74-75页
结论第75-78页
    1 论文的主要工作第75-76页
    2 论文的主要创新点第76-77页
    3 后续工作展望第77-78页
致谢第78-79页
参考文献第79-84页
攻读硕士学位期间发表的学术论文及研究成果第84页

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