摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第9-15页 |
1.1 课题研究背景 | 第9-10页 |
1.2 BAW滤波器发展现状 | 第10-14页 |
1.3 本文组织安排 | 第14-15页 |
2 设计基础 | 第15-23页 |
2.1 FBAR工作原理 | 第15-17页 |
2.2 BAW滤波器工作原理 | 第17-18页 |
2.3 FBAR电路模型 | 第18-21页 |
2.3.1 Mason模型 | 第18-20页 |
2.3.2 BVD与MBVD电路模型 | 第20-21页 |
2.4 FBAR两个性能指标 | 第21-22页 |
2.4.1 k_(eff)~2 | 第21页 |
2.4.2 Q值 | 第21-22页 |
2.5 滤波器设计指标 | 第22页 |
2.6 小结 | 第22-23页 |
3 FBAR设计 | 第23-40页 |
3.1 材料选择 | 第23-24页 |
3.2 较高K_(EFF)~2的FBAR设计 | 第24-29页 |
3.2.1 电极/压电层厚度比对k_(eff)~2的影响 | 第24-27页 |
3.2.2 Al N材料C轴取向对k_(eff)~2的影响 | 第27-29页 |
3.3 较高Q值的FBAR设计 | 第29-39页 |
3.3.1 寄生谐振对Q值的影响 | 第29页 |
3.3.2 电极变迹抑制寄生谐振 | 第29-33页 |
3.3.3 电极加框改善Q值 | 第33-35页 |
3.3.4 仿真设计和结果分析 | 第35-39页 |
3.4 小结 | 第39-40页 |
4 BAW滤波器的结构参数设计 | 第40-58页 |
4.1 考虑温漂的技术指标 | 第40-42页 |
4.2 初始设计模型 | 第42-43页 |
4.3 中心频率与带宽设计 | 第43-47页 |
4.3.1 中心频率影响因素分析 | 第43页 |
4.3.2 带宽影响因素分析 | 第43-44页 |
4.3.3 FBAR膜层厚度确定 | 第44-47页 |
4.4 带外抑制与带内插损设计 | 第47-52页 |
4.4.1 影响因素分析 | 第47页 |
4.4.2 级联阶数确定 | 第47-50页 |
4.4.3 各FBAR面积确定 | 第50-52页 |
4.5 优化设计结果 | 第52-54页 |
4.6 电感对带外抑制的改善 | 第54-57页 |
4.6.1 原理 | 第54-55页 |
4.6.2 最小电感的位置确定 | 第55-56页 |
4.6.3 带外抑制与电感值的折中 | 第56-57页 |
4.7 小结 | 第57-58页 |
5 版图与工艺设计 | 第58-75页 |
5.1 BAW滤波器布局 | 第58-64页 |
5.1.1 布局准则 | 第58-59页 |
5.1.2 布局流程 | 第59-61页 |
5.1.3 案例 | 第61-64页 |
5.2 声-电磁协同仿真验证 | 第64-68页 |
5.2.1 建模 | 第65-66页 |
5.2.2 性能评估 | 第66-67页 |
5.2.3 结果与讨论 | 第67-68页 |
5.3 加工工艺流程设计 | 第68-70页 |
5.4 光刻掩膜版设计 | 第70-74页 |
5.5 小结 | 第74-75页 |
结论 | 第75-78页 |
1 论文的主要工作 | 第75-76页 |
2 论文的主要创新点 | 第76-77页 |
3 后续工作展望 | 第77-78页 |
致谢 | 第78-79页 |
参考文献 | 第79-84页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文及研究成果 | 第84页 |