| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 课题背景 | 第10页 |
| 1.2 聚合物/无机纳米复合材料概述 | 第10-12页 |
| 1.2.1 聚合物/无机纳米复合材料的制备工艺 | 第10-11页 |
| 1.2.2 聚合物/无机纳米复合材料的性能 | 第11-12页 |
| 1.3 聚酰亚胺 | 第12-15页 |
| 1.3.1 聚酰亚胺的种类 | 第13-14页 |
| 1.3.2 聚酰亚胺的制备 | 第14-15页 |
| 1.3.3 聚酰亚胺的性能 | 第15页 |
| 1.4 改性聚酰亚胺 | 第15-16页 |
| 1.5 聚酰亚胺纳米复合材料 | 第16-18页 |
| 1.5.1 聚酰亚胺纳米复合材料的制备 | 第17页 |
| 1.5.2 用于杂化的纳米颗粒结构与性能 | 第17-18页 |
| 1.5.3 聚酰亚胺纳米复合材料的应用 | 第18页 |
| 1.6 课题研究的目的和意义 | 第18-19页 |
| 1.7 课题的研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 PI/SiO_2和 PI/TiO_2纳米复合薄膜制备 | 第20-27页 |
| 2.1 PI/SiO_2纳米复合薄膜制备 | 第20-23页 |
| 2.1.1 PI/SiO_2纳米复合薄膜的制备方法 | 第20-22页 |
| 2.1.2 主要原料及仪器设备 | 第22页 |
| 2.1.3 PI/SiO_2纳米复合薄膜制备过程 | 第22-23页 |
| 2.2 PI/TiO_2纳米复合薄膜制备 | 第23-26页 |
| 2.2.1 PI/TiO_2纳米复合薄膜的制备方法 | 第23-25页 |
| 2.2.2 主要原料及仪器设备 | 第25页 |
| 2.2.3 PI/TiO_2纳米复合薄膜制备过程 | 第25-26页 |
| 2.3 本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 PI/SiO_2纳米复合薄膜表征及性能研究 | 第27-34页 |
| 3.1 红外光谱表征 | 第27-28页 |
| 3.1.1 PI 及 PI/SiO_2纳米复合薄膜红外光谱表征 | 第27页 |
| 3.1.2 偶联剂 ICTOS 对 PI/SiO_2纳米复合薄膜残渣红外光谱的影响 | 第27-28页 |
| 3.2 PI 及 PI/SiO_2纳米复合薄膜形貌 | 第28-30页 |
| 3.3 PI 及 PI/SiO_2纳米复合薄膜的热稳定性 | 第30-31页 |
| 3.4 PI 及 PI/SiO_2纳米复合薄膜的力学性能研究 | 第31-33页 |
| 3.4.1 PI 及 PI/SiO_2纳米复合薄膜的断裂强度测试 | 第32页 |
| 3.4.2 PI 及 PI/SiO_2纳米复合薄膜的断裂伸长率测试 | 第32-33页 |
| 3.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第4章 PI/TiO_2纳米复合薄膜表征及耐电晕性能研究 | 第34-43页 |
| 4.1 PI 及 PI/TiO_2纳米复合薄膜红外光谱表征 | 第34页 |
| 4.2 X 射线衍射测试与分析 | 第34-36页 |
| 4.2.1 PI 及 PI/TiO_2纳米复合薄膜的 X 射线衍射分析 | 第35页 |
| 4.2.2 锐钛矿结构二氧化钛及 PI/TiO_2纳米复合薄膜残渣 X 射线衍射分析 | 第35-36页 |
| 4.3 PI 及 PI/TiO_2纳米复合薄膜微观形貌 | 第36-37页 |
| 4.4 PI 及 PI/TiO_2纳米复合薄膜介电性能研究 | 第37-40页 |
| 4.4.1 聚合物/无机纳米复合薄膜介电性能及机理 | 第38-39页 |
| 4.4.2 PI 及 PI/TiO_2纳米复合薄膜介电常数分析 | 第39-40页 |
| 4.4.3 PI 及 PI/TiO_2纳米复合薄膜介电损耗分析 | 第40页 |
| 4.5 PI 及 PI/TiO_2纳米复合薄膜耐电晕性能研究 | 第40-42页 |
| 4.5.1 聚合物/无机纳米复合薄膜耐电晕性能及机理 | 第40-41页 |
| 4.5.2 PI 及 PI/TiO_2纳米复合薄膜老化时间分析 | 第41-42页 |
| 4.6 本章小结 | 第42-43页 |
| 结论 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-49页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |
