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高温水中Zn离子抑制镍合金腐蚀机理半导体电化学研究

摘要第1-7页
ABSTRACT第7-15页
第1章 绪论第15-34页
   ·高温水中Zn离子添加的技术背景第15-16页
   ·国内外研究动态第16-19页
     ·Zn离子注入对职业辐射照射和金属腐蚀的抑制作用第17页
     ·Zn离子注入抑制职业辐射照射和腐蚀的机理研究第17-19页
   ·金属表面氧化膜的电子结构分析方法第19-29页
     ·光电化学响应技术第23-25页
     ·交流阻抗技术第25-29页
   ·金属材料上氧化膜的电子结构第29-32页
     ·纯Fe和纯Cr上氧化膜的电子结构第29-30页
     ·不锈钢上氧化膜的电子结构第30-32页
   ·本文研究目的与内容第32-33页
   ·本章小结第33-34页
第2章 合金表面氧化膜半导体的电子结构测定方法第34-41页
   ·实验材料与溶液第34-35页
   ·实验设备与方法第35-40页
     ·电化学电池第35-36页
     ·光电化学响应平台第36-37页
     ·光强分布测定第37-40页
     ·交流阻抗法(Mott-Schottky曲线)第40页
   ·本章小结第40-41页
第3章 纯Ni表面氧化膜半导体的电子结构性质第41-50页
   ·实验第41-42页
   ·结果和讨论第42-46页
     ·动电位扫描(Potentiodynamic polarization)第42-43页
     ·光电化学响应第43-45页
     ·Mott-Schottky曲线第45-46页
   ·纯Ni上钝化膜的能带结构模型第46-49页
   ·本章小结第49-50页
第4章 高温水中Zn离子抑制镍合金腐蚀机理半导体电化学研究第50-68页
   ·实验第50-51页
   ·结果和讨论第51-66页
     ·动电位扫描第51页
     ·高温水中添加Zn~(2+)对镍合金氧化膜半导体性质影响第51-56页
     ·高温水中添加ZnO对镍合金氧化膜半导体性质影响第56-66页
   ·高温水中Zn离子添加对镍基合金表面氧化膜半导体性质影响的机理第66-67页
   ·本章小结第67-68页
第5章 高温水中Zn离子抑制不锈钢腐蚀机理半导体电化学研究第68-78页
   ·实验第68-69页
   ·结果和讨论第69-77页
     ·动电位扫描第69页
     ·高温水中添加ZnSO_4对SUS304L不锈钢氧化膜半导体性质影响第69-72页
     ·高温水中添加ZnO对SUS316L不锈钢氧化膜半导体性质影响第72-77页
   ·本章小结第77-78页
第6章 镍合金和不锈钢的表面形貌和成分分析第78-86页
   ·表面形貌分析第78-82页
     ·采用硫酸盐形式加入高温水后的Inconel600合金表面形貌第78-79页
     ·采用硫酸盐形式加入高温水后的SUS316L不锈钢表面形貌第79-80页
     ·采用ZnO形式加入高温水后的Inconel600合金表面形貌第80-81页
     ·采用ZnO形式加入高温水后的SUS316L不锈钢表面形貌第81-82页
   ·氧化膜成分的XPS分析第82-85页
     ·Inconel600合金在高温水中添加ZnO后生成氧化膜的成分分析第82-83页
     ·SUS316L不锈钢在高温水中添加ZnSO_4后生成氧化膜的成分分析第83-85页
   ·本章小结第85-86页
第7章 SUS304L不锈钢孔蚀的交流阻抗和环境因子研究第86-99页
   ·电化学阻抗谱法对SUS304L不锈钢孔蚀生长和再钝化阶段的原位研究第86-94页
     ·实验第86-87页
     ·结果第87-89页
     ·电路的拟合第89-90页
     ·讨论第90-94页
   ·SUS304L不锈钢孔蚀与环境因子的电化学研究第94-98页
     ·实验第94-95页
     ·结果与讨论第95-98页
   ·本章小结第98-99页
第8章 总结与展望第99-101页
   ·结论第99-100页
   ·创造性成果第100页
   ·展望第100-101页
参考文献第101-114页
攻读博士学位期间发表的论文第114-116页
攻读博士学位期间参加的科研工作第116-117页
致谢第117-118页
作者简介第118页

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