摘要 | 第1-7页 |
ABSTRACT | 第7-15页 |
第1章 绪论 | 第15-34页 |
·高温水中Zn离子添加的技术背景 | 第15-16页 |
·国内外研究动态 | 第16-19页 |
·Zn离子注入对职业辐射照射和金属腐蚀的抑制作用 | 第17页 |
·Zn离子注入抑制职业辐射照射和腐蚀的机理研究 | 第17-19页 |
·金属表面氧化膜的电子结构分析方法 | 第19-29页 |
·光电化学响应技术 | 第23-25页 |
·交流阻抗技术 | 第25-29页 |
·金属材料上氧化膜的电子结构 | 第29-32页 |
·纯Fe和纯Cr上氧化膜的电子结构 | 第29-30页 |
·不锈钢上氧化膜的电子结构 | 第30-32页 |
·本文研究目的与内容 | 第32-33页 |
·本章小结 | 第33-34页 |
第2章 合金表面氧化膜半导体的电子结构测定方法 | 第34-41页 |
·实验材料与溶液 | 第34-35页 |
·实验设备与方法 | 第35-40页 |
·电化学电池 | 第35-36页 |
·光电化学响应平台 | 第36-37页 |
·光强分布测定 | 第37-40页 |
·交流阻抗法(Mott-Schottky曲线) | 第40页 |
·本章小结 | 第40-41页 |
第3章 纯Ni表面氧化膜半导体的电子结构性质 | 第41-50页 |
·实验 | 第41-42页 |
·结果和讨论 | 第42-46页 |
·动电位扫描(Potentiodynamic polarization) | 第42-43页 |
·光电化学响应 | 第43-45页 |
·Mott-Schottky曲线 | 第45-46页 |
·纯Ni上钝化膜的能带结构模型 | 第46-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
第4章 高温水中Zn离子抑制镍合金腐蚀机理半导体电化学研究 | 第50-68页 |
·实验 | 第50-51页 |
·结果和讨论 | 第51-66页 |
·动电位扫描 | 第51页 |
·高温水中添加Zn~(2+)对镍合金氧化膜半导体性质影响 | 第51-56页 |
·高温水中添加ZnO对镍合金氧化膜半导体性质影响 | 第56-66页 |
·高温水中Zn离子添加对镍基合金表面氧化膜半导体性质影响的机理 | 第66-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
第5章 高温水中Zn离子抑制不锈钢腐蚀机理半导体电化学研究 | 第68-78页 |
·实验 | 第68-69页 |
·结果和讨论 | 第69-77页 |
·动电位扫描 | 第69页 |
·高温水中添加ZnSO_4对SUS304L不锈钢氧化膜半导体性质影响 | 第69-72页 |
·高温水中添加ZnO对SUS316L不锈钢氧化膜半导体性质影响 | 第72-77页 |
·本章小结 | 第77-78页 |
第6章 镍合金和不锈钢的表面形貌和成分分析 | 第78-86页 |
·表面形貌分析 | 第78-82页 |
·采用硫酸盐形式加入高温水后的Inconel600合金表面形貌 | 第78-79页 |
·采用硫酸盐形式加入高温水后的SUS316L不锈钢表面形貌 | 第79-80页 |
·采用ZnO形式加入高温水后的Inconel600合金表面形貌 | 第80-81页 |
·采用ZnO形式加入高温水后的SUS316L不锈钢表面形貌 | 第81-82页 |
·氧化膜成分的XPS分析 | 第82-85页 |
·Inconel600合金在高温水中添加ZnO后生成氧化膜的成分分析 | 第82-83页 |
·SUS316L不锈钢在高温水中添加ZnSO_4后生成氧化膜的成分分析 | 第83-85页 |
·本章小结 | 第85-86页 |
第7章 SUS304L不锈钢孔蚀的交流阻抗和环境因子研究 | 第86-99页 |
·电化学阻抗谱法对SUS304L不锈钢孔蚀生长和再钝化阶段的原位研究 | 第86-94页 |
·实验 | 第86-87页 |
·结果 | 第87-89页 |
·电路的拟合 | 第89-90页 |
·讨论 | 第90-94页 |
·SUS304L不锈钢孔蚀与环境因子的电化学研究 | 第94-98页 |
·实验 | 第94-95页 |
·结果与讨论 | 第95-98页 |
·本章小结 | 第98-99页 |
第8章 总结与展望 | 第99-101页 |
·结论 | 第99-100页 |
·创造性成果 | 第100页 |
·展望 | 第100-101页 |
参考文献 | 第101-114页 |
攻读博士学位期间发表的论文 | 第114-116页 |
攻读博士学位期间参加的科研工作 | 第116-117页 |
致谢 | 第117-118页 |
作者简介 | 第118页 |