| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 选题背景及意义 | 第10-17页 |
| 1.1.1 汽车灯具简介 | 第10-12页 |
| 1.1.2 国内外发展情况 | 第12-16页 |
| 1.1.3 选题意义 | 第16-17页 |
| 1.2 汽车灯具复合镀膜工艺关键技术 | 第17-21页 |
| 1.2.1 复杂曲面结构表面均匀镀膜工艺难题 | 第18页 |
| 1.2.2 底层流平工艺带来的附着力问题 | 第18-20页 |
| 1.2.3 高反射率和光学保护膜复合膜系制备工艺 | 第20-21页 |
| 1.2.4 复合镀膜工艺过程全自动控制技术 | 第21页 |
| 1.3 论文结构和主要研究内容 | 第21-23页 |
| 2 车灯复合镀膜工艺技术路线研究 | 第23-35页 |
| 2.1 真空系统相关概念 | 第23-24页 |
| 2.2 真空镀膜工艺技术 | 第24-26页 |
| 2.2.1 PVD镀膜工艺 | 第24-25页 |
| 2.2.2 CVD镀膜工艺 | 第25-26页 |
| 2.3 车灯复合镀膜工艺路线 | 第26-34页 |
| 2.3.1 车灯表面复合膜系结构 | 第26-27页 |
| 2.3.2 工艺技术路线 | 第27-30页 |
| 2.3.3 车灯复合镀膜装备 | 第30-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 3 复杂曲面结构车灯表面均匀镀膜工艺研究 | 第35-57页 |
| 3.1 薄膜沉积的均匀性 | 第35-37页 |
| 3.2 镀膜蒸发源布置 | 第37-43页 |
| 3.2.1 有效镀膜距离 | 第37-40页 |
| 3.2.2 有效镀膜区域 | 第40-41页 |
| 3.2.3 蒸发源的布置 | 第41-43页 |
| 3.3 工件运动方式 | 第43-48页 |
| 3.3.1 运动轨迹方程 | 第43-44页 |
| 3.3.2 运动轨迹分析 | 第44-47页 |
| 3.3.3 工件转速的选择 | 第47-48页 |
| 3.4 工作气体的布置 | 第48-53页 |
| 3.4.1 气体引入与配气方式 | 第48-52页 |
| 3.4.2 车灯镀膜工作气体 | 第52-53页 |
| 3.5 均匀性镀膜试验 | 第53-55页 |
| 3.5.1 试验过程 | 第53-55页 |
| 3.5.2 试验效果分析 | 第55页 |
| 3.6 本章小结 | 第55-57页 |
| 4 底层流平处理带来的附着力问题与离子清洗工艺研究 | 第57-77页 |
| 4.1 薄膜的附着力问题 | 第57-59页 |
| 4.1.1 薄膜的附着力理论 | 第57-58页 |
| 4.1.2 车灯镀膜的附着力问题 | 第58-59页 |
| 4.2 离子轰击清洗处理工艺 | 第59-65页 |
| 4.2.1 离子轰击清洗的基本原理 | 第59-60页 |
| 4.2.2 气体放电理论及应用 | 第60-63页 |
| 4.2.3 车灯在线离子清洗工艺 | 第63-65页 |
| 4.3 离子轰击电场及实现方式 | 第65-73页 |
| 4.3.1 非均匀电场模型 | 第65-67页 |
| 4.3.2 均匀电场模型 | 第67-69页 |
| 4.3.3 高压电源引入与绝缘防护 | 第69-73页 |
| 4.4 离子轰击清洗效果 | 第73-76页 |
| 4.4.1 薄膜附着力的评价 | 第73-74页 |
| 4.4.2 离子轰击清洗试验 | 第74-76页 |
| 4.5 本章小结 | 第76-77页 |
| 5 高反射率与光学保护膜复合膜系制备工艺研究 | 第77-97页 |
| 5.1 车灯产品性能需求 | 第77-78页 |
| 5.2 金属化薄膜及反射率 | 第78-80页 |
| 5.2.1 薄膜反射率 | 第78-79页 |
| 5.2.2 金属薄膜材料 | 第79-80页 |
| 5.3 高反射Al膜制备工艺 | 第80-85页 |
| 5.3.1 蒸发镀膜制备工艺 | 第80-83页 |
| 5.3.2 磁控溅射制备工艺 | 第83-85页 |
| 5.4 光学保护膜在线制备工艺 | 第85-89页 |
| 5.4.1 传统保护膜工艺的不足 | 第85-86页 |
| 5.4.2 铝膜的保护膜材料选择 | 第86-87页 |
| 5.4.3 等离子聚合薄膜机理 | 第87页 |
| 5.4.4 在线保护膜制备工艺 | 第87-89页 |
| 5.5 反射率和保护膜性能 | 第89-96页 |
| 5.5.1 反射率性能 | 第89-92页 |
| 5.5.2 抗劣化性能 | 第92-94页 |
| 5.5.3 耐摩擦性能 | 第94-96页 |
| 5.6 本章小结 | 第96-97页 |
| 6 复合镀膜工艺过程控制方法研究 | 第97-129页 |
| 6.1 计算机全自动控制系统方案 | 第97-100页 |
| 6.1.1 控制系统方案 | 第97-98页 |
| 6.1.2 工艺过程组态控制 | 第98-100页 |
| 6.2 真空获得过程控制方法 | 第100-106页 |
| 6.2.1 真空获得过程分析 | 第100-104页 |
| 6.2.2 真空获得过程控制 | 第104-106页 |
| 6.3 离子轰击工艺过程控制方法 | 第106-113页 |
| 6.3.1 气体放电负载特性 | 第107-108页 |
| 6.3.2 离子轰击工艺过程控制 | 第108-113页 |
| 6.4 蒸发与溅射镀膜工艺控制方法 | 第113-128页 |
| 6.4.1 蒸发源的负载特性 | 第113-115页 |
| 6.4.2 蒸发工艺过程控制 | 第115-121页 |
| 6.4.3 磁控溅射源负载特性 | 第121-123页 |
| 6.4.4 磁控溅射工艺过程控制 | 第123-128页 |
| 6.5 本章小结 | 第128-129页 |
| 结论与展望 | 第129-131页 |
| 致谢 | 第131-132页 |
| 参考文献 | 第132-137页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第137-138页 |